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アネルバRIE装置

設備ID TU-208
分類 膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称 アネルバRIE装置 (Anelva RIE)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 アネルバ (Anelva)
型番 DEA-506
キーワード Si、SiO2、SiNエッチング用のバッチ式のRIE
仕様・特徴 サンプルサイズ・同時処理枚数:4インチ×12枚、6インチ×5枚、8インチ×3枚
基板固定方式:静置
プラズマ方式:CCP
ガス:CF4、CHF3、Ar、O2
メタルマスク(Al、Crなど)不可
    アネルバRIE装置
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