アネルバRIE装置
設備ID | TU-208 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | アネルバRIE装置 (Anelva RIE) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | アネルバ (Anelva) |
型番 | DEA-506 |
キーワード | Si、SiO2、SiNエッチング用のバッチ式のRIE |
仕様・特徴 | サンプルサイズ・同時処理枚数:4インチ×12枚、6インチ×5枚、8インチ×3枚 基板固定方式:静置 プラズマ方式:CCP ガス:CF4、CHF3、Ar、O2 メタルマスク(Al、Crなど)不可 |