アネルバマルチスパッタ
設備ID | TU-163 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | アネルバマルチスパッタ (Anelva multi-sputtering) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | アネルバ (Anelva) |
型番 | SPC-350 |
キーワード | ロードロック付、クライオポンプでの排気による高性能膜のスパッタ |
仕様・特徴 | サンプルサイズ、同時処理枚数:4インチ×6枚 基板温度:室温~650℃ 電源:DC×2、RF×1(同時放電可能) ターゲット:6インチ×3(強磁性体対応) |