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アネルバマルチスパッタ

設備ID TU-163
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
装置名称 アネルバマルチスパッタ (Anelva multi-sputtering)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 アネルバ (Anelva)
型番 SPC-350
キーワード ロードロック付、クライオポンプでの排気による高性能膜のスパッタ
仕様・特徴 サンプルサイズ、同時処理枚数:4インチ×6枚
基板温度:室温~650℃
電源:DC×2、RF×1(同時放電可能)
ターゲット:6インチ×3(強磁性体対応)
    アネルバマルチスパッタ
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