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ECRロングスロースパッタ

設備ID TU-162
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
装置名称 ECRロングスロースパッタ (ECR long-throw sputter)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 エリオニクス (Elionix)
型番 EIS-200ERP-NPD-TK
キーワード 直進性のよいスパッタ粒子による成膜が可能で、リフトオフに最適
Al、Cr、Auなど
仕様・特徴 サンプルサイズ:小片~6インチ
基板温度:20℃
ターゲット:4インチ× 2
ターゲット‐ステージ間距離 :350mm
到達真空度:3E-4Pa
エッチング可
    ECRロングスロースパッタ
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