ECRロングスロースパッタ
設備ID | TU-162 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | ECRロングスロースパッタ (ECR long-throw sputter) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
型番 | EIS-200ERP-NPD-TK |
キーワード | 直進性のよいスパッタ粒子による成膜が可能で、リフトオフに最適 Al、Cr、Auなど |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:小片~6インチ 基板温度:20℃ ターゲット:4インチ× 2 ターゲット‐ステージ間距離 :350mm 到達真空度:3E-4Pa エッチング可 |