ウエハスピン現像装置
最終更新日：2024年6月26日
| 設備ID | GA-015 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > レジスト処理装置 表面処理・洗浄 > ウェット処理 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
| 設備名称 | ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer ) |
| 設置機関 | 香川大学 |
| 設置場所 | 香川大学 創造工学部, 香川県科学技術研究センター |
| メーカー名 | 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO) |
| 型番 | AD-1200（無機用），AD-1200（有機用） |
| キーワード | 現像液とリンス液をノズルから噴霧 |
| 仕様・特徴 | 基板サイズ：φ4"以下 基板ホルダー：真空吸着式 基板回転数：0～3000rpm 可変式 処理時間：999sec/stop（1sec単位） 使用薬液：無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応 処理方法：スプレースイングアーム式 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=GA-015 |
