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水素アニール装置

設備ID TU-108
分類 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
熱処理・ドーピング > その他
表面処理・洗浄 > その他
装置名称 水素アニール装置 (Hydrogen annealing)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 オリジナル (Original)
型番 -
キーワード 水素雰囲気におけるSi表面の平滑化処理など
仕様・特徴 東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度:最高1100℃
    水素アニール装置
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