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ウェル拡散炉
設備ID
RO-224
分類
熱処理・ドーピング > 拡散
装置名称
ウェル拡散炉 (Well diffusion furnaces)
設置機関
広島大学
設置場所
CR西棟1F
メーカー名
東京エレクトロン (Tokyo Electron)
型番
370MI- MINI
キーワード
2inch、cut wafer
仕様・特徴
最高使用温度1150℃
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