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Rapid Thermal Anneal装置(RTA)

    Rapid Thermal Anneal装置(RTA)
    Rapid Thermal Anneal装置(RTA)
機器ID RO-222
分類 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
装置名称 Rapid Thermal Anneal装置(RTA) (Rapid Thermal Annealing furnaces)
設置機関 広島大学
設置場所 CR西棟1F
メーカー名 サムコ (Samco Inc.)
型番 サムコ製 HT-1000
キーワード 対応wafer:2inch、cut wafer
仕様・特徴 昇温速度最大200℃/s(N2, O2, Ar)
機関代表メールアドレス nanofab=ml.hiroshima-u.ac.jp ([=]を[@]にしてください)
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