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イオン注入装置

設備ID	RO-211
分類	熱処理・ドーピング > イオン注入
装置名称	イオン注入装置 (Ion implanter)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟１F
メーカー名	アルバック (ULVAC, Inc.)
型番	IM-200M
キーワード	対応wafer：２inch、cut wafer
仕様・特徴	5keV-150keV, B, As, P, Si, F, Ar, In, Sb, N, He 等注入可能