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イオン注入装置

    イオン注入装置
    イオン注入装置
機器ID RO-211
分類 熱処理・ドーピング > イオン注入
装置名称 イオン注入装置 (Ion implanter)
設置機関 広島大学
設置場所 CR西棟1F
メーカー名 アルバック (ULVAC, Inc.)
型番 IM-200M
キーワード 対応wafer:2inch、cut wafer
仕様・特徴 5keV-150keV, B, As, P, Si, F, Ar, In, Sb, N, He 等注入可能
機関代表メールアドレス nanofab=ml.hiroshima-u.ac.jp ([=]を[@]にしてください)
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