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レイアウト設計ツール
レイアウト設計ツール
設備ID
RO-131
分類
リソグラフィ > その他
装置名称
レイアウト設計ツール (Mask layout design tool)
設置機関
広島大学
設置場所
東棟
メーカー名
Tanner (Tanner)
型番
L-Edit
キーワード
仕様・特徴
リソグラフィマスク設計用レイアウトエディター
IC,MEMSデバイス設計用ソフト。Tanner社L-Edit
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