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レイアウト設計ツール

    レイアウト設計ツール
    レイアウト設計ツール
機器ID RO-131
分類 リソグラフィ > その他
装置名称 レイアウト設計ツール (Mask layout design tool)
設置機関 広島大学
設置場所 東棟
メーカー名 Tanner (Tanner)
型番 L-Edit
キーワード
仕様・特徴 リソグラフィマスク設計用レイアウトエディター
IC,MEMSデバイス設計用ソフト。Tanner社L-Edit
機関代表メールアドレス nanofab=ml.hiroshima-u.ac.jp ([=]を[@]にしてください)
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