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マスクレス露光装置

     マスクレス露光装置
     マスクレス露光装置
機器ID RO-112
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
装置名称 マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
設置機関 広島大学
設置場所 CR東棟1F
メーカー名 株式会社ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
型番 DL-1000
キーワード 対応wafer:2~4inch、cut wafer他
仕様・特徴 DMDを用いたレーザー露光装置
最小画素:1μm
機関代表メールアドレス nanofab=ml.hiroshima-u.ac.jp ([=]を[@]にしてください)
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