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超高精度電子ビーム描画装置

     超高精度電子ビーム描画装置
     超高精度電子ビーム描画装置
機器ID RO-111
分類 リソグラフィ > 電子線描画(EB)
装置名称 超高精度電子ビーム描画装置 (Ultra high precision electron beam lithography system)
設置機関 広島大学
設置場所 CR東棟1F
メーカー名 エリオニクス (Elionix)
型番 ELS-G100
キーワード 試料サイズ:2~6インチ直径の定型ウエハ
仕様・特徴 加速電圧:100kV,50kV, 25kV
電子ビームの最小スポットサイズ:ビーム電流1nAにおいて2.0nm以下
最小線幅:6nm
機関代表メールアドレス nanofab=ml.hiroshima-u.ac.jp ([=]を[@]にしてください)
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