レーザ描画装置
設備ID | TU-057 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | レーザ描画装置 (Laser writer) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
型番 | DWL2000CE |
キーワード | マスク作製(Cr、エマルジョン)、直接描画、グレイスケール露光 |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:小片~9インチ 波長:405nm 最小描画線幅:0.7µm |