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エッチング装置(ICP Al用) (Inductively coupled plasma etcher for Al)

メーカー名
株式会社ユーテック (YOUTECUniversal Technics Co.,Ltd )
型番
12-228PH
設備画像
エッチング装置(ICP Al用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
Cl2, BCl3, N2使用可能

エッチング装置(CDE SiN用) (Chemical dry etching system for Si3N4)

メーカー名
神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.)
型番
設備画像
エッチング装置(CDE SiN用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
CF4, O2, N2使用可能

エッチング装置(レジスト Ashing用) (Asher)

メーカー名
神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.)
型番
設備画像
エッチング装置(レジスト Ashing用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
O2, N2使用可能 レジストアッシング用

エッチング装置(ICP Poly-Siゲート用) (Inductively coupled plasma etcher for poly-Si)

メーカー名
株式会社ユーテック (YOUTECUniversal Technics Co.,Ltd )
型番
12-228PH
設備画像
エッチング装置(ICP Poly-Siゲート用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
Cl2, O2, N2, HBr使用可能

エッチング装置(汎用) (Dry etching system for general purpose)

メーカー名
株式会社エイコー (EIKO CORPORATION)
型番
VX-20S
設備画像
エッチング装置(汎用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
CF4, O2, N2使用可能

プローバ (High-temperature manual probe station)

メーカー名
日本マイクロニクス (Micronics Japan)
型番
C-51
設備画像
プローバ
設置機関
広島大学
仕様・特徴

半導体パラメータアナライザ (Semiconductor Parameter Analyzer)

メーカー名
アジレント (Agilent)
型番
4156他
設備画像
半導体パラメータアナライザ
設置機関
広島大学
仕様・特徴
トランジスタ特性測定(HP4156、プローバ含む)、
電源3ユニット、最小測定電流0.1pA

LCRメータ (LCR meter)

メーカー名
アジレント (Agilent)
型番
4284他
設備画像
LCRメータ
設置機関
広島大学
仕様・特徴

インピーダンスアナライザ (Impedance Analyzer)

メーカー名
アジレント (Agilent)
型番
4294他
設備画像
インピーダンスアナライザ
設置機関
広島大学
仕様・特徴

ホール効果測定装置 (Hall effect measuring device)

メーカー名
ACCENT (ACCENT)
型番
HL5500PC
設備画像
ホール効果測定装置
設置機関
広島大学
仕様・特徴
試料の抵抗値、キャリア濃度及び移動度を測定可
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