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表面増強赤外分光装置 (Surface-Enhanced Infrared Spectroscope)

設備ID
NI-010
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
表面増強赤外分光装置
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
FT-IR4200ST
仕様・特徴
測定範囲:4,000~1,000 cm–1
in situ測定(電気化学)

飛行時間型二次イオン質量分析装置 (Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometer)

設備ID
NI-011
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
飛行時間型二次イオン質量分析装置
メーカー名
アルバック・ファイ (ULVAC-PHI)
型番
PHI TRIFTV nano TOF
仕様・特徴
質量分解能:9000M/Δm以上
スペクトル測定およびマッピング、深さ分析
サンプルの大気非暴露測定可

顕微蛍光X線分析装置 (Micro Fluorescent X-ray Analyzer)

設備ID
NI-012
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
顕微蛍光X線分析装置
メーカー名
堀場製作所 (HORIBA)
型番
XGT-7200VNM
仕様・特徴
蛍光X線分析と透過X線の同時観察が可能
10μmおよび1.2mmプローブ搭載
点およびマッピング測定に対応可能
真空環境下および大気環境下での測定

高精度ガス/蒸気吸着量測定装置 (Surface Area and Pore Size Distribution Analyzer)

設備ID
NI-013
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
高精度ガス/蒸気吸着量測定装置
メーカー名
日本ベル (MicrotracBEL)
型番
BELSORP-max
仕様・特徴
細孔分布:直径0.35~500nm
最小比表面積:0.01m2/g(N2

高周波透磁率測定装置 (High Frequency Permeability Measurement System)

設備ID
NI-014
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
高周波透磁率測定装置
メーカー名
凌和電子 (Ryowa)
型番
PMF-3000
仕様・特徴
1MHz~3GHzの広帯域透磁率測定
試料サイズ5~6(W)×5(L)×1mm(t)

振動試料型磁束計 (Vibrating Sample Magnetometer)

設備ID
NI-015
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
振動試料型磁束計
メーカー名
東英工業 (Toei Industry Co., Ltd.)
型番
VSM-5
仕様・特徴
最大印可磁場 1.5 T
感度 1x10-5 emu

精密形状測定・局所磁気測定・局所電気特性評価装置 (Scanning Probe Microscope for Morphological, Magnetic and Electrical Characterization)

設備ID
NI-017
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
精密形状測定・局所磁気測定・局所電気特性評価装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JSPM-5200TM
仕様・特徴
分解能:原子分解能。カーボンナノファイバー(CNF)探針によるソフトマテリアル低損傷観察可能。
測定モード:形状、電気特性、磁気特性測定。

プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置 (Plasma-Gas-Condensation Cluster Deposition Apparatus)

設備ID
NI-101
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置
メーカー名
日本ビーテック (Vieetech Japan)
型番
特型
仕様・特徴
クラスターサイズ 直径3~15nm
直流マグネトロンスパッタリング方式
スパッタ電力 最大500W
基板サイズ 最大2cmX2cm

スパッタリング蒸着装置 (Sputtering Deposition Apparatus)

設備ID
NI-102
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
スパッタリング蒸着装置
メーカー名
アルバック (ULVAC, Inc.)
型番
SPC-2000HC
仕様・特徴
ヘリコン波励起スパッタリング
RF電源13.56MHz 200W

真空蒸着装置群 (Vacuum Deposition Equipment)

設備ID
NI-103
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
真空蒸着装置群
メーカー名
シンク/ MBRAUN (Sinku of Technology Co., Ltd./ MBRAUN)
型番
JIS-300AK/ DBO-1KP-0
仕様・特徴
●真空蒸着装置(JIS-300AK)
マイカ基板サイズ:15×15mm(標準)
マイカ厚み:0.1~0.15mm
金膜厚:100〜150nm
●グローブボックス(DBO-1KP-0)
Ar下における少量のサンプル調整(合成)が可能、電子天秤あり
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