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3次元電界放出形走査電子顕微鏡（エリオニクス） (3 Dimensional Field Emission SEM)
- 設備ID
- AT-107
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (ELIONIX)
- 型番
- ERA-9200
- 仕様・特徴
- ・型式:ERA-9200
・試料サイズ:4インチφ, 16mmt
・電子銃:ZrO/W熱電界放射型
・加速電圧:1～30 kV
・リタ―ディング電圧:3kV
・分解能:0.4nm以下（30kV）、0.5nm以下（15kV）、0.7nm以下（1kV）
・可動範囲:30×50mm（X-Y）、1～30mm（Z）、-5～45°（Tilt）
・検出器:2次電子検出器（４本）
- 設備状況
- 稼働中
６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック） (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
- 設備ID
- AT-109
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- アールデック (R-DEC)
- 型番
- ADS-E86
- 仕様・特徴
- ・型式:ADS-E86
・試料サイズ:8インチφ
・蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発
・蒸発源:6連装（6 kW）
・クルーシブル容量:12 ml
・基板ホルダ:冷却機構付(水冷)
・蒸発源―基板間:500 mm
・試料導入:ロードロック自動搬送
・真空排気システム:到達圧力1×10-5 Pa以下、オイルフリー、自動排気
・成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御
・膜厚分布:10 %以内@200mm
・常設ソース材料: Al, Al, Cu, Ti,
- 設備状況
- 稼働中
レーザー描画装置〔DWL66+〕 (Laser Beam Lithography)
- 設備ID
- AT-110
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL66+
- 仕様・特徴
- ・型式:DWL66+
・試料サイズ:8インチφ、200mm×200mm×12mmt
・最小角型試料サイズ： 5mm×5mm
・描画エリア:200mm×200mm
・レーザー光源:405nm
・最小描画パターン:0.5μm （L&S）、0.3μm（孤立パターン）
・重ね合わせ描精度:0.25μm(5mm×5mm以内)、0.5μm(100mm×100mm以内)
・裏面パターンとの重ね合わせ精度：1μm
・グレースケール露光:1000階調
- 設備状況
- 稼働中
大面積電子ビーム描画装置[BODEN50] (Electron Beam Lithography System〔ELS-BODEN50〕)
- 設備ID
- AT-115
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![大面積電子ビーム描画装置[BODEN50]](data/facility_item/1741763024_24.jpg)
- メーカー名
- エリオニクス (ELIONIX)
- 型番
- ELS-BODEN50
- 仕様・特徴
- 最大試料サイズ：8インチφ
加速電圧：50kV
最小描画サイズ：20nm(@1nA)
フィールドサイズ：最大1.5mm□
最大ビーム電流：800nA
最大スキャンクロック：100MHz
- 設備状況
- 稼働中
EB用自動現像装置（カナメックス） (Automatic Development System for EB Litography)
- 設備ID
- AT-116
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- カナメックス (KANAMEX)
- 型番
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：2～6インチ、小片10mm□、20ｍｍ□ レシピ数：100
現像：2系統（酢酸nアミル、TMAH2.38%）
リンス：２系統（IPA、純水）
現像液温度制御：10～30℃
- 設備状況
- 稼働中
多機能型薄膜Ｘ線回折装置(XRD) (Multifunctiolal X-ray Diffractometer (XRD))
- 設備ID
- AT-117
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- パナリティカル (PANalytical)
- 型番
- X'Pert3 MRD
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：最大100mmφ
試料ステージ：垂直型
試料形態：薄膜
測定：２θ/θ、2θ/ω、in-plane2θχ/φ、逆格子空間マッピング測定、ロッキングカーブ測定、極点測定、面内マッピング測定、反射率測定
- 設備状況
- 稼働中
多機能型光電子分光分析装置(XPS) (Multifunctional X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis System (XPS))
- 設備ID
- AT-118
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック・ファイ (ULVAC PHI)
- 型番
- Model 900
- 仕様・特徴
- 搭載分析機能：XPS, UPS, 走査型オージェ電子分光分析, 低エネルギー逆光電子分光, 反射電子エネルギー損失分光他
最大試料サイズ：80 mm×80 mm, 高さ12 mm
試料加熱冷却範囲：-100 ～ 500℃
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置［MLA150］ (Maskless Lithography System ［MLA150］)
- 設備ID
- AT-119
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- ・型式：MLA150
・光源：半導体レーザー（375nm )
・ステージ位置決め精度：10nm（X軸，Y軸）
・最大ウエハーサイズ：φ８インチ
・最大描画エリア：200mm×200mm
・アドレスグリッド：40nm
・最小描画パターン：500nm（L&Sパターン）
・エッジラフネス：60nm（３σ）
・ＣＤ均一性：100nm(３σ)
・重ね合わせ描画精度：0.25μm(5mm×5mm)、
0.5μm(100mm×100mm)
・ 裏面パターンとの重ね合わせ描画精度：1μm
- 設備状況
- 稼働中
陽電子プローブマイクロアナライザー(PPMA) (Positron Probe MicroAnalyzer (PPMA))
- 設備ID
- AT-501
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 産総研自主開発 (AIST Original)
- 型番
- 仕様・特徴
- 電子の反粒子である陽電子のマイクロビームを作り、物質中の陽電子寿命のマッピング測定を行う装置。
原子が1個抜けた原子空孔、ナノボイドのサイズ、分布の評価が可能。
・陽電子源 ： 電子加速器対生成方式
・陽電子ビーム径 ： 0.01 mm ～ 10 mm
・陽電子ビームエネルギー ： 1-30 keV
・寿命測定時間分解能 ： 200-300 ps
- 設備状況
- 稼働中
超伝導蛍光収量Ｘ線吸収微細構造分析装置 (SC-XAFS) (X-ray Absorption Fine Structure Spectroscopy with a Superconducting Fluorescence Detector (SC-XAFS))
- 設備ID
- AT-502
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 産総研自主開発 (AIST Original)
- 型番
- 仕様・特徴
- エネルギー分散超伝導検出器を搭載し、母材中の微量軽元素や重い元素のL、M線のＸ線吸収微細構造測定により、特定の微量元素の原子スケール構造解析を行う。省エネ半導体ドーパント、酸化物、磁性体などの原子配位や電子状態を評価する。
・蛍光Ｘ線エネルギー分解能 ： 10 eV
・エネルギー範囲 ： 70eV-5000eV(<1keV:超伝導､> 2keV:半導体)
・アレイ検出器素子数 ：100
・光子計数率 ： 1 Mcps
・冷却 ： 液体ヘリウムを使用せず機械式冷凍機による自動冷却（0.3K)
- 設備状況
- 稼働中