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接触角計 (Contact angle meter)

設備ID
NM-016
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
接触角計
メーカー名
AST Products (AST Products)
型番
VCA Optima-XE
仕様・特徴
・材料表面に液体を滴下して接触角を測定します。
・測定範囲:0~180°
・再現性:1°
・正確性::0.5°

テクスチャーアナライザー (Texture analyzer)

設備ID
NM-017
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
テクスチャーアナライザー
メーカー名
英弘精機 (EKO Instruments)
型番
TA-XT2i
仕様・特徴
・ロードセル容量・分解能:50kg±1g、5kg±0.1g
・距離設定:0.1mm~250mm
・距離分解能:0.0025mm
・スピード設定:0.1mm/s~10mm/s
・測定モード:圧縮または引張による荷重測定または距離測定

HPLC(質量分析計付き) (HPLC with MS)

設備ID
NM-018
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
HPLC(質量分析計付き)
メーカー名
島津製作所 サーモフィッシャーサイエンティフィック (Shimadzu Thermo Fisher Scientific)
型番
Prominence LXQ
仕様・特徴
【HPLC】
・送液ユニット:LC-20AD
・オートサンプラー:SIL-20AC
・カラムオーブン:CTO-20AC (室温-10℃~85℃)
・PDA検出器:SPD-M20A (波長範囲190~800nm)
【質量分析計】
・イオン化方式:ESI
・質量検出方式:イオントラップ
・測定質量範囲:20~2,000 m/z

ゲル浸透クロマトグラフィー装置群 (Gel permeation chromatography (GPC))

設備ID
NM-019
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ゲル浸透クロマトグラフィー装置群
メーカー名
島津製作所 ワイアットテクノロジー 昭和電工 (Shimadzu Wyatt TechnologyShowa Showa Denko)
型番
Nexera 40DAWN 8GPC-101GPC-101
仕様・特徴
【GPC (Nexera 40)】
・送液ユニット:LC-40D (流量範囲0.0001~5mL/min)
・オートサンプラー:SIL-40
・カラムオーブン:CTO-40C (室温-10~100℃)
・PDA検出器:SPD-40 (波長範囲190~700nm)
・RI検出器:Shodex RI-501
【MALS (DAWN 8)】
・検出器数:8
・分子量測定範囲:200~300MDa(タンパク)、200~10MDa(直鎖高分子)
・回転半径測定範囲:10~300nm
【GPC (GPC-101)】
・送液ポンプ流量範囲:0.01~2mL/min
・カラムオーブン温度設定範囲:室温+15℃~75℃
・オートサンプラー試料検体数:50検体
・検出器:RI、UV-VIS

500MHz固体汎用NMRシステム (500 MHz Solid-State NMR (Ⅰ))

設備ID
NM-101
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
500MHz固体汎用NMRシステム
メーカー名
オックスフォード・インストゥルメンツ(株) 日本電子(株) (Oxford Instruments Plc. JEOL Ltd.)
型番
JNM-ECZ500R
仕様・特徴
・磁場:11.75 T (固定) (1H :500 MHz相当)
・ボア径:89 mm(室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度:2.6×10-6/20mm DSV
・ヘリウム4インサート付
・温度可変クライオスタット
・プローブ:HX (3.2 mmφ/22 kHz, 4 mmφ/15 kHz)
      HX (4 mmφ/15 kHz with a Low-γ kit, Phoenix)
      HXY (4 mmφ/15 kHz)
      Static (home-built, with a He gas-flow cryostat)
・CP/MAS, Static (broad line at cryotemperatures) など

500MHz固体高分解能NMRシステム (500 MHz Solid-State NMR (Ⅱ))

設備ID
NM-102
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
500MHz固体高分解能NMRシステム
メーカー名
ジャパン スーパーコンダクタ テクノロジー(株) 日本電子(株) (Japan Superconductor Technology, Inc. JEOL Ltd.)
型番
JNM-ECZ500R
仕様・特徴
・磁場:11.75 T (固定) (1H: 500 MHz相当)
・ボア径:89 mm (室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度:2.6×10-6/20 mm DSV
・試料温度可変 (-150 ℃ ~ +250 ℃)
・プローブ:HX (3.2 mmφ/22 kHz, 4 mmφ/15 kHz)
      HX (4 mmφ/15 kHz with a Low-γ kit, Phoenix)
      HXY (4 mmφ/15 kHz)
      Static (6 mmφ, with an optional goniometer, Doty)
・CP/MAS, MQMAS, Static (anisotropy)
・WebEX system 遠隔操作

800MHzナローボア固体高分解能NMRシステム (800MHz solid-state high-resolution NMR)

設備ID
NM-103
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
800MHzナローボア固体高分解能NMRシステム
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
ECA800
仕様・特徴
・磁場:18.79 T (固定) (1H: 800 MHz相当)
・ボア径:54 mm (室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度:2.6×10-6/20 mm DSV
・プローブ:HX (1 mmφ/70 kHz, 2 mmφ/40 kHz, 3.2 mmφ/22 kHz)
・CP/MAS, MQMAS, Low-γなど

多環境場対応型X線単結晶構造解析装置 (Single Crystal X-ray Diffractometer for Multiple Environments)

設備ID
NM-201
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLAB Synergy-R/DW Custom
仕様・特徴
1. 単結晶X線構造解析装置本体(Mo KαおよびCu Kα線源、定格最大出力2.9 kW)
2. ガス吹付型試料冷却装置(30 ~ 300 K)
3. ガス吹付型試料加熱装置(300 ~ 1073 K)
4. 元素分析アタッチメント(P以上)
5. 遠隔操作(除く試料交換&センターリング)

走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS) (Dual Scanning X-ray Photoelectron Microprobe Equipped with Hard X-Ray (HAX-PES/XPS))

設備ID
NM-202
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS)
メーカー名
アルバック・ファイ(株) (ULVAC-PHI)
型番
Quantes
仕様・特徴
・軟 X 線 (Al Kα) と硬 X 線 (Cr Kα) の2つの X 線源を有し、前者で試料最表面、後者で試料内部・界面の電子状態の観測が可能。
・電圧印可下での電子状態変化の観測が可能。
・温度制御範囲:90~870 K。

誘導結合プラズマ発光分析装置群 (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometers / Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometers)

設備ID
NM-203
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
誘導結合プラズマ発光分析装置群
メーカー名
1-3. アジレント・テクノロジー 4. 日立ハイテクサイエンス 5. サーモフィッシャーサイエンティフィック (1-3. Agilent Technology 4. Hitachi High-Tech Science Corporation 5. Thermo Fisher Scientific K.K.)
型番
1. 720 ICP-OES 2. Agilent5800 3. Agilent7850 4. SPS3520DD-UV 5. Element XR
仕様・特徴
1/2.多波長同時測定による高速測定(世界最速)/低濃度溶液から高濃度溶液を希釈なし測定
3. 高速双極線型四重極分析/スペクトル干渉除去
4. 高スペクトル分解能逐次測定/低濃度溶液から高濃度溶液を測定/Cl,Br測定
1-4. 共通 元素の検出下限濃度bbtレベル以下
5. 高質量分解能二重収束型質量分析/溶液試料中の極微量元素測定(Li~U)
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