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IRエミッション顕微鏡 (IR Emission Microscope)

設備ID
BA-017
設置機関
筑波大学
設備画像
IRエミッション顕微鏡
メーカー名
浜松ホトニクス / TNSシステムズ / 東機通商 (Hamamatsu Photonics K.K. / TNS Systems LLC / Toki Commercial Co., Ltd)
型番
THEMOS-1000
仕様・特徴
半導体デバイスの故障に起因する発光・発熱などをとらえて故障個所を特定する高解像度エミッション顕微鏡。赤外線画像の観測により、発熱分布(温度分布)の検出や、電流リーク箇所の同定が可能。発熱分布の時間依存性計測により、温度の時間的な広がりが観測可能。パワーデバイス特性評価装置B1505Aと組み合わせることでプローバーとして利用可能。
検出波長:3.7μm~5.1μm
最大視野:3cm × 2cm
最小視野:0.7mm × 0.7mm
最小空間分解能:2.8μm
雑音等価温度差:25mK
時間分解能:3μsec.
ステージ温度:室温~200℃
設備状況
稼働中

磁気光学効果評価装置 (Evaluation appratus for magneto-optic effect)

設備ID
IT-031
設置機関
東京工業大学
設備画像
磁気光学効果評価装置
メーカー名
プレサイスゲージ サンテック FiberPro アドバンテスト ネオアーク 等のメーカー (Precise Gauges Santech FiberPro Advantest Neoark and other manufacturers)
型番
PGAL-1005 TSL-510 CLS-561 Q8384 BH-762P-TIT
仕様・特徴
プレサイスゲージ社製導波路調芯装置/サンテック社製波長可変光源(波長1500~1680nm)/FiberPro社製ASE光源(~20dBm)/アドバンテスト社製光スペクトラムアナライザ(波長分解能0.01nm)による光導波路試料の磁気光学効果の測定
ファラデー回転測定装置(波長1550nm、最大磁場~1.6T:面直)/ネオアーク社製磁気カー偏光顕微鏡(対物レンズ50倍、最大磁場~0.1T:面内)による薄膜試料の磁気光学効果の測定
設備状況
稼働中

東京エレクトロン300mm ウェハプローバ (Tokyo Electron 300mm Wafer Prober)

設備ID
IT-035
設置機関
東京工業大学
設備画像
東京エレクトロン300mm ウェハプローバ
メーカー名
東京エレクトロン (Tokyo Electron)
型番
PrecioNanoPV00043
仕様・特徴
150mm, 200mm, 300mmウェハ対応プローバー
多数枚自動測定対応、シリコンフォトニクス受動デバイス静特性測定
設備状況
稼働中

FormFactor 300mm ウェハプローバ (FormFactor 300mm Wafer Prober)

設備ID
IT-036
設置機関
東京工業大学
設備画像
FormFactor 300mm ウェハプローバ
メーカー名
FormFactor (FormFactor)
型番
CM300
仕様・特徴
チップ~ 300mmウェハ対応プローバー
単枚自動測定対応、シリコンフォトニクス受動デバイス静/動特性測定
設備状況
稼働中

超音波顕微鏡 (Ultrasonic microscope)

設備ID
TU-312
設置機関
東北大学
設備画像
超音波顕微鏡
メーカー名
インサイト (Insight)
型番
IS-350
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~300mm角
反射測定、透過測定の両方可
超音波周波数:10MHz、15MHz、25MHz、35MHz、50MHz、110MHz、200MHz
設備状況
稼働中
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