1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

300kV収差補正電子顕微鏡 (Analytical apparatus for electron beam sensitive materials)

メーカー名
日本電子 (JEOL )
型番
JEM-ARM300F
設備画像
300kV収差補正電子顕微鏡
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・加速電圧 60, 80, 300kV
・TEM非線形情報限界 60pm
・TEM格子分解能 50pm
・STEM空間分解能 58pm
・CMOSカメラ 動画撮影機能搭載
・デュアルEDS検出器 合計立体角1.2Sr
・EELS エネルギー分解能0.7eV

単原子分析電子顕微鏡 (Atomic-resolution analytical electron microscope)

メーカー名
日本エフイー・アイ (FEI)
型番
FEI Titan Cubed
設備画像
単原子分析電子顕微鏡
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・加速電圧80kV-300kV
・分解能70pm (300kV)
・エネルギー分解能80meV (80kV)
・ダブルコレクター
・モノクロメータ

冷陰極電界放出形電子顕微鏡 (Cold-FEG transmission electron microscope)

メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies Corporation)
型番
HF-3000S
設備画像
冷陰極電界放出形電子顕微鏡
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・加速電圧:100-300kV
・分解能0.2nm (300kV)

誘導結合プラズマ発光分光分析装置  (ICP Atomic Emission Spectrometer)

メーカー名
島津製作所 (Shimazu)
型番
ICPE-9000
設備画像
誘導結合プラズマ発光分光分析装置
設置機関
東北大学
仕様・特徴
・プラズマ光源:軸・横方向観測、ミニプラズマトーチ
・高周波電源:水晶発振器、最大出力;1.6 kW、半導体高周波回折素子
・光学器:エシェル分光器、波長範囲:167~800 nm、半導体検出器、分解能;0.005 nm(@200 nm)

低加速電圧対応原子分解能走査型透過電子顕微鏡 (Low-voltage atomic-resolution Scanning Transmision Electron Microscopy)

メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL)
型番
JEM-ARM200CF
設備画像
低加速電圧対応原子分解能走査型透過電子顕微鏡
設置機関
東京大学
仕様・特徴
□ 主な仕様
・冷陰極電界放出電子銃
・加速電圧: 30 - 200 kV
・分解能: 0.071 nm (200 kV), 0.11 nm (60 kV)
・分析機能: EDS, EELS
・収差補正装置(プローブ補正)
・遠隔操作利用可

多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy)

メーカー名
アルバックファイ㈱ (ULVAC-PHI, Inc. )
型番
PHI 5000 VersaProbe
設備画像
多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
設置機関
東京大学
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 走査型マイクロフォーカスX線源による微小領域分析(最小分析領域10μm)
・ SXI(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
・ 5軸(X、Y、Z、Tilt、Rotation)モータ駆動による多点分析
□ 主な仕様
・ 最小ビーム径:10μm以下
・ 最高エネルギー分解能:0.5eV以下(Ag3d 5/2)
・ 最大感度:1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき)
・ 到達圧力:6.7×10-8Pa以下

分光エリプソメータ (M-2000DI-T)

メーカー名
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン (J.A.Woollam)
型番
M-2000U
設備画像
分光エリプソメータ
設置機関
東京大学
仕様・特徴
□ 主な仕様
・測定波長:193~1690nm
・チャンネル数:690同時計測
・回転補償子型

オージェ分光分析装置 (Auger Electron Spectroscopy)

メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
PHI680
設備画像
オージェ分光分析装置
設置機関
東京大学
仕様・特徴
元素分析装置。 対象の極表面から出て来るオージェ電子のエネルギー分光計測によって元素を調べることが出来る。
アルゴンミリングと併用でき、深さ方向のプロファイルを測定することができる。

蛍光X線分析装置 (X-ray Fluorescence Analyzer)

メーカー名
リガク社 (Rigaku)
型番
NEX CG(EXDL 300)
設備画像
蛍光X線分析装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・・エネルギー分散型 ・最大出力:50W
・二次ターゲット:Cu、Mo、Al、RX-9、Si
・検出器:Silicon Drift Detector ・試料サイズ:φ20

キラリティー分光装置群 (Circular Dichroism Spectrometer)

メーカー名
JASCO社 (JASCO)
型番
ECD J-702YS VCD FVS-6000 DRCD PCD-466
設備画像
キラリティー分光装置群
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
ECD J-702Y(電子円二色性)
器:ヘッドオン型光電子倍増管
・測定波長範囲:163~900nm(標準検出器)
・CD分解能:0.0005mdeg(±10mdeg), 0.01mdeg(±200mdeg), 0.1mdeg(±2000mdeg)
・ペルチェ式温度コントローラ装備
・クライオスタット装備

VCD FVS-6000(振動円二色性)
・測定波数範囲:3200~850 cm-1 (PV-MCT)
・測定波数範囲:4000~2000 cm-1 (InSb)
・分解:0.5, 1, 2, 4, 8, 16cm-1
・光学系:シングルビーム
・干渉計:28°入射マイケルソン干渉計
・光源:高輝度セラミック光源
・検出器:PV-MCT, InSb

DRCD PCD-466(拡散反射円二色性分光装置)
・光源:450W Xeランプ 水冷方式
・検出器:ヘッドオン型光電子倍増管・測定波長範囲:163~900nm(標準検出器)
・CD分解能:0.0005mdeg(±10mdeg), 0.01mdeg(±200mdeg), 0.1mdeg(±2000mdeg)
スマートフォン用ページで見る