1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS) (Dual Scanning X-ray Photoelectron Microprobe Equipped with Hard X-Ray (HAX-PES/XPS))

メーカー名
アルバック・ファイ(株) (ULVAC-PHI)
型番
Quantes
設備画像
走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS)
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・軟 X 線 (Al Kα) と硬 X 線 (Cr Kα) の2つの X 線源を有し、前者で試料最表面、後者で試料内部・界面の電子状態の観測が可能。
・電圧印可下での電子状態変化の観測が可能。
・温度制御範囲:90~870 K。

多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy)

メーカー名
アルバックファイ㈱ (ULVAC-PHI, Inc. )
型番
PHI 5000 VersaProbe
設備画像
多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
設置機関
東京大学
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 走査型マイクロフォーカスX線源による微小領域分析(最小分析領域10μm)
・ SXI(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
・ 5軸(X、Y、Z、Tilt、Rotation)モータ駆動による多点分析
□ 主な仕様
・ 最小ビーム径:10μm以下
・ 最高エネルギー分解能:0.5eV以下(Ag3d 5/2)
・ 最大感度:1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき)
・ 到達圧力:6.7×10-8Pa以下

X線光電子分光装置 (X-ray photoemission spectrometer)

メーカー名
VG (VG)
型番
ESCALab250
設備画像
X線光電子分光装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・Mg/Alツインアノード
・AlモノクロX線源
・Arスパッタ銃
・角度分解測定用マニュピレータ
・最大試料サイズ:20mmφ

ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)

メーカー名
自作 (Lab made)
型番
設備画像
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う.
・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He
・基板温度:-10℃-60℃
・サンプル:4インチウエハ

表面解析プラズマビーム装置 (Plasma beam system with surface analysis)

メーカー名
自作 (Lab made)
型番
設備画像
表面解析プラズマビーム装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・プラズマビームを材料表面に照射後のin-situ XPS評価により,表面-プラズマ間の反応の解析が可能.
・使用ガス:HBr,Ar,CF4,C4F8,Cl2,H2,N2,O2

in-situプラズマ照射表面分析装置 (In-situ plasma exposure and analysis system)

メーカー名
自作 (Lab made)
型番
設備画像
in-situプラズマ照射表面分析装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・プラズマ照射後の表面のin-situ XPS,FT-IR,STM分析が可能.
・プロセスガス:H2,N2,O2,Ar,He,SiH4,SF6,CF4

電子状態測定システム (X-ray photoelectron spectrometer)

メーカー名
島津製作所 ( Shimazu )
型番
AXIS-ULTRA
設備画像
電子状態測定システム
設置機関
九州大学
仕様・特徴
・測定範囲10~1500 eVを25meV以下のステップ、
・分析面積15μmφ~
・Mg/AlデュアルX線源、出力~450W
・イオンポンプ、真空到達度10-10 Pa
・Arエッチング可能、
・予備室内での加熱処理対応、
・大面積試料バーで複数試料の同時マウントが可能
・元素マッピング可能

X線光電子分光装置 (X-ray photoelectron spectroscope)

メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JPS-9200
設備画像
X線光電子分光装置
設置機関
北海道大学
仕様・特徴
標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV(モノクロX線源)
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:30μmφ~3mmφ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20mm×50mm
トランスファーベッセル
画面共有システムによる遠隔立ち会い

X線光電子分光装置 (X-ray photoelectron spectrometer)

メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JPS-9200
設備画像
X線光電子分光装置
設置機関
北海道大学
仕様・特徴
標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV(モノクロX線源)
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:3μmφ~3mmφ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20mm×50mm

X線光電子分光装置 (X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS))

メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JPS-9010TR
設備画像
X線光電子分光装置
設置機関
筑波大学
仕様・特徴
Mg / Al ツインアノード X 線銃
単色化 AlKα線(Ag 3d5/2 半値幅:0.65 eV)
静電半球型分光器
試料傾斜機構(0 ~ 90°)
中和電子銃・Ar イオンエッチング銃搭載
試料加熱機構(要相談)
スマートフォン用ページで見る