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CCDマルチICP発光分光分析装置 (ICP-OES Analyzer SPECTRO ARCOS)

設備ID
KU-518
設置機関
九州大学
設備画像
 CCDマルチICP発光分光分析装置
メーカー名
SPECTRO (SPECTRO)
型番
ARCOS EOP 130
仕様・特徴
タイプ 多元素同時(マルチ):ポリクロメーター
多元素同時(マルチ):ポリクロメーター
マウント方式 トリプル・パッシェンルンゲ
波長範囲 130~770nm
UVシステム
(200nm以下の測定システム) UV-PLUS(連続ガスパージ不要)
クリーンカートリッジ交換:2年に1回
焦点距離 750mm
回折格子 3,600本/mm 2式 1,800本/mm 1式
次光 1次光(全波長範囲)
検出器 リニアCCDアレイ

グロー放電分光分析装置 (Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry)

設備ID
WS-032
設置機関
早稲田大学
設備画像
グロー放電分光分析装置
メーカー名
株式会社堀場製作所 (HORIBA, Ltd.)
型番
GDA750
仕様・特徴
軽元素(N, O, H等)の分析可能、分析範囲4mmφ以上、10mm□以上4"までのSi、ガラス基板

ラマン顕微鏡 (Raman microscope)

設備ID
NM-003
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ラマン顕微鏡
メーカー名
レニショー (Renishaw)
型番
inVia Reflex
仕様・特徴
・ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。
・繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。
・共焦点機構による高い空間分解能。
・レーザー波長:532nm及び785nm
・波数分解能:0.3cm-1
・空間分解能:水平0.25µm、垂直1µm
・対物レンズ:5倍、20倍、50倍、63倍(水浸)、100倍
・温度制御:-196~600℃

プレートリーダー (Plate reader)

設備ID
NM-008
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
プレートリーダー
メーカー名
パーキンエルマー (PerkinElmer)
型番
EnSight
仕様・特徴
・モノクロメーターによる任意波長の測定が可能。
・多様な測定モード(吸光/蛍光/発光/時間分解蛍光)。
・温度調節機能やプレート撹拌機能を搭載。
・光源:UVキセノンフラッシュランプ
・検出器(吸光):フォトダイオード(230-1000nm)
・検出器(蛍光):光電子増倍管(230-850nm)
・波長選択:モノクロメーター
・プレートフォーマット:6ウェル、12ウェル、24ウェル、48ウェル、96ウェル、384ウェル

分光光度計 (Spectrophotometer)

設備ID
NM-009
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光光度計
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
U-2900
仕様・特徴
・光学系:ダブルビーム
・波長範囲:190~1100nm
・スペクトルバンド幅:1.5nm

分光蛍光光度計 (Fluorescence spectrophotometer)

設備ID
NM-010
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光蛍光光度計
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
F-7000
仕様・特徴
・感度:水のラマン光S/N800以上(RMS)、S/N250以上(Peak to peak)
・光源:150W Xeランプ
・測定波長範囲:200~750nm
・波長走査速度:30~60,000nm/min

フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)

設備ID
NM-011
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
フーリエ変換赤外分光光度計
メーカー名
島津製作所 (Shimadzu)
型番
IRTracer-100
仕様・特徴
・光源:高輝度セラミックス光源
・検出器:温調付きDLATGS、液体窒素冷却型MCT
・スペクトル範囲:7,800~350cm-1
・分解能:最大0.25cm-1
・SN比 最大60000:1
・測定用付属品:拡散反射、多重反射ATR、一回反射ATR

円二色性分散計 (Circular dichroism (CD))

設備ID
NM-012
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
円二色性分散計
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
J-725
仕様・特徴
・光源:450Wキセノンランプ
・測定波長範囲:165~1100nm
・測定モード:スペクトル測定、時間変化測定
・スキャン方式:連続スキャン、ステップスキャン
・測定レンジ:0~5Abs
・試料室:恒温水循環により調温

走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS) (Dual Scanning X-ray Photoelectron Microprobe Equipped with Hard X-Ray (HAX-PES/XPS))

設備ID
NM-202
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
走査型デュアルX線光電子分光分析装置 (HAX-PES/XPS)
メーカー名
アルバック・ファイ(株) (ULVAC-PHI)
型番
Quantes
仕様・特徴
・軟 X 線 (Al Kα) と硬 X 線 (Cr Kα) の2つの X 線源を有し、前者で試料最表面、後者で試料内部・界面の電子状態の観測が可能。
・電圧印可下での電子状態変化の観測が可能。
・温度制御範囲:90~870 K。

誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型) (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometer (ICP-OES))

設備ID
NM-203
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型)
メーカー名
アジレント・テクノロジー(株) (Agilent Technologies Japan, Ltd.)
型番
720 ICP-OES
仕様・特徴
1.多波長同時測定による高速測定(世界最速)
2.軸方向測光で、多波長同時マルチキャリブレーション機能により低濃度溶液から高濃度溶液を希釈なしで測定可能
3.元素の検出下限濃度ppbレベル
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