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真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)

設備ID
HK-627
設置機関
北海道大学
設備画像
真空紫外露光装置
メーカー名
エヌ工房 (N ceator)
型番
PC-01-H
仕様・特徴
試料サイズ:最大1インチ
設備状況
稼働中

UVオゾンクリーナー・キュア装置 (UV Ozone Cleaner & DeepUV Cure Equipment)

設備ID
KT-230
設置機関
京都大学
設備画像
UVオゾンクリーナー・キュア装置
メーカー名
サムコ(株) (Samco Inc.)
型番
UV-300HKU
仕様・特徴
サムコ株式会社 UV-300HKU
UVランプと高濃度オゾナイザを備える
Φ8インチウェハ対応
O2、N2ガス
ステージ加熱:室温~300℃
設備状況
稼働中

UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])

設備ID
NM-606
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
UVオゾンクリーナー [UV-1]
メーカー名
サムコ (samco)
型番
UV-1
仕様・特徴
・用途:基板クリーニング,表面改質
・光源:紫外線ランプ (184.9nmおよび253.7nm)
・オゾンジェネレータ:無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度:室温~300度
・最大試料サイズ:φ8 inch
設備状況
稼働中

水素アニール装置 (Hydrogen annealing)

設備ID
TU-108
設置機関
東北大学
設備画像
水素アニール装置
メーカー名
オリジナル (Original)
型番
-
仕様・特徴
東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度:最高1100℃
設備状況
稼働中

パリレンコーター (Parylene Coater)

設備ID
UT-709
設置機関
東京大学
設備画像
パリレンコーター
メーカー名
米国SCS社 (Specialty Coating Systems)
型番
PDS2010
仕様・特徴
8インチまでの成膜が可能。
設備状況
稼働中
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