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"CO2洗浄"で検索した結果 1件
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3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system)
- 設備ID
- NU-246
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO)
- 型番
- Photonic Professional SCLEAD3CD2000
- 仕様・特徴
- Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度:100 nm
・3次元加工精度:150 nm
・対応データ:DXF, STL
KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度:100 ℃
・設計圧力:20 MPa
- 設備状況
- 稼働中
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