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高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)

設備ID
AT-092
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
高圧ジェットリフトオフ装置
メーカー名
カナメックス (Kanamex)
型番
KLO-150CBU
仕様・特徴
・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□~150mmφ
・回転数:0~2000rpm
・NMP処理温度:80℃
設備状況
稼働中

ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )

設備ID
GA-015
設置機関
香川大学
設備画像
ウエハスピン現像装置
メーカー名
滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
型番
AD-1200(無機用),AD-1200(有機用)
仕様・特徴
基板サイズ:φ4"以下
基板ホルダー:真空吸着式
基板回転数:0~3000rpm 可変式
処理時間:999sec/stop(1sec単位)
使用薬液:無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法:スプレースイングアーム式
設備状況
稼働中

蒸気二流体洗浄装置 [SSM101] (Steam Two-Fluid Cleaning System [SSM101])

設備ID
NM-668
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]
メーカー名
HUGパワー (HUG Power)
型番
SSM101
仕様・特徴
・用途:基板洗浄、リフトオフ
・手法:蒸気二流体超音速噴射
・溶液:純水
・乾燥:スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ:φ6inch
設備状況
稼働中

洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)

設備ID
TT-008
設置機関
豊田工業大学
設備画像
洗浄ドラフト一式
メーカー名
東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
型番
特注
仕様・特徴
シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型~太陽電池156mm角基板等
設備状況
稼働中

エッチングチャンバー (Draft chamber)

設備ID
TU-001
設置機関
東北大学
設備画像
エッチングチャンバー
メーカー名
アズワン (As one)
型番
PSH1200
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況
稼働中

有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)

設備ID
TU-002
設置機関
東北大学
設備画像
有機ドラフトチャンバー
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況
稼働中

リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching)

設備ID
TU-003
設置機関
東北大学
設備画像
リン酸槽
メーカー名
- (-)
型番
-
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況
稼働中

スピン乾燥機 (Spin dryer)

設備ID
TU-004
設置機関
東北大学
設備画像
スピン乾燥機
メーカー名
東邦化成 (Toho Kasei)
型番
ZAA-4
仕様・特徴
サンプルサイズ:20mm角~6インチ
設備状況
稼働中

4スピン乾燥機 (4 Spin dryer)

設備ID
TU-005
設置機関
東北大学
設備画像
4スピン乾燥機
メーカー名
SEMITOOL (SEMITOOL)
型番
PSC101
仕様・特徴
カセット式で1度に25枚まで処理可能
設備状況
稼働中

6スピン乾燥機 (6 Spin dryer)

設備ID
TU-006
設置機関
東北大学
設備画像
6スピン乾燥機
メーカー名
SEMITOOL (SEMITOOL)
型番
PSC101
仕様・特徴
カセット式で1度に25枚まで処理可能
設備状況
稼働中
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