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高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)
- 設備ID
- AT-092
- 設置機関
- 産業技術総合研究所(AIST)
- 設備画像

- メーカー名
- カナメックス (Kanamex)
- 型番
- KLO-150CBU
- 仕様・特徴
- ・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□~150mmφ
・回転数:0~2000rpm
・NMP処理温度:80℃
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )
- 設備ID
- GA-015
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像

- メーカー名
- 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
- 型番
- AD-1200(無機用),AD-1200(有機用)
- 仕様・特徴
- 基板サイズ:φ4"以下
基板ホルダー:真空吸着式
基板回転数:0~3000rpm 可変式
処理時間:999sec/stop(1sec単位)
使用薬液:無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法:スプレースイングアーム式
- 設備状況
- 稼働中
蒸気二流体洗浄装置 [SSM101] (Steam Two-Fluid Cleaning System [SSM101])
- 設備ID
- NM-668
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![蒸気二流体洗浄装置 [SSM101]](data/facility_item/1738542615_24.jpg)
- メーカー名
- HUGパワー (HUG Power)
- 型番
- SSM101
- 仕様・特徴
- ・用途:基板洗浄、リフトオフ
・手法:蒸気二流体超音速噴射
・溶液:純水
・乾燥:スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ:φ6inch
- 設備状況
- 稼働中
洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)
- 設備ID
- TT-008
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像

- メーカー名
- 東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型~太陽電池156mm角基板等
- 設備状況
- 稼働中
エッチングチャンバー (Draft chamber)
- 設備ID
- TU-001
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- アズワン (As one)
- 型番
- PSH1200
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
- 設備状況
- 稼働中
有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)
- 設備ID
- TU-002
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
- 設備状況
- 稼働中
リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching)
- 設備ID
- TU-003
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- - (-)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
- 設備状況
- 稼働中
スピン乾燥機 (Spin dryer)
- 設備ID
- TU-004
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- 東邦化成 (Toho Kasei)
- 型番
- ZAA-4
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:20mm角~6インチ
- 設備状況
- 稼働中
4スピン乾燥機 (4 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-005
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 設備状況
- 稼働中
6スピン乾燥機 (6 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-006
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 設備状況
- 稼働中