共用設備検索結果
表示件数
ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡群 (Field emission scanning electron microscope)
- 設備ID
- GA-013
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像

- メーカー名
- 日本電子, 日本電子, 日本電子, ディエナー (JEOL, JEOL, JEOL, diener)
- 型番
- JSM-IT800SHL, JCM-7000, JFC-3000FC, Femto
- 仕様・特徴
- ・JSM-IT800SHL
サンプルサイズ:~φ100mm
分解能:0.7nm(20kV)1.3nm(1kV)
倍率:×27~5,480,000(表示倍率)
加速電圧:0.01~30kV
分析機能:EDS
・JCM-7000
サンプルサイズ:~φ25mm(傾斜回転有)~φ80mm(傾斜回転無)
倍率:×10~100,000
加速電圧:5kV、10kV、15kV(3段)
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマクリーナー (Aqua Plasma Cleaner)
- 設備ID
- KT-231
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- サムコ(株) (Samco Inc.)
- 型番
- AQ-500KU
- 仕様・特徴
- サムコ株式会社 Aqua Plasma クリーナー AQ-500KU
水蒸気(H2O)を用いたプラズマ処理
樹脂接合、金属酸化膜の還元、有機洗浄、超親水性処理
200mm角試料まで対応
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #1])
- 設備ID
- NM-605
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]](data/facility_item/NM-605.jpg)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・用途:洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力:50-250W
・反応ガス:H2O,O2
・最大試料サイズ:φ8 inch
・その他:自動運転プログラム
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #2])
- 設備ID
- NM-638
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]](data/facility_item/1687416351_11.jpg)
- メーカー名
- サムコ株式会社 (Samco Inc.)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・出力:50-250W
・プロセスガス:H2O,O2
・最大試料サイズ:φ6 inch
- 設備状況
- 稼働中
超高密度大気圧プラズマ装置 (Ultra-high density atomospheric pressure plasma system)
- 設備ID
- NU-235
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- FUJI (FUJI)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- ・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理(改質、洗浄)
・使用ガス:Ar,N2.Ar+O2
・電源:AC交流電源、9 kV,60 Hz
- 設備状況
- 稼働中
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)
- 設備ID
- NU-237
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う.
・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He
・基板温度:-10℃-60℃
・サンプル:4インチウエハ
- 設備状況
- 稼働中
表面解析プラズマビーム装置 (Plasma beam system with surface analysis)
- 設備ID
- NU-239
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマビームを材料表面に照射後のin-situ XPS評価により,表面-プラズマ間の反応の解析が可能.
・使用ガス:HBr,Ar,CF4,C4F8,Cl2,H2,N2,O2
- 設備状況
- 稼働中
in-situプラズマ照射表面分析装置 (In-situ plasma exposure and analysis system)
- 設備ID
- NU-240
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ照射後の表面のin-situ XPS,FT-IR,STM分析が可能.
・プロセスガス:H2,N2,O2,Ar,He,SiH4,SF6,CF4
- 設備状況
- 稼働中
プラズマクリーナー (Plasma cleaner)
- 設備ID
- TU-211
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- PDC210
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~6インチ
基板固定方式:静置(温度制御不可)
プラズマ方式:CCP、バレル式
ガス:O2、Ar
- 設備状況
- 稼働中
アルバック アッシング装置 (Ulvac asher)
- 設備ID
- TU-212
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- UNA-2000
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:4、6インチ
カセットtoカセット
プラズマ方式:CCP(2.45GHz)
ガス:O2、H2フォーミングガス
- 設備状況
- 稼働中