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湿式微粒化装置（ジェットミル） (Wet type jet-mill)
- 設備ID
- CT-027
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- 常光 (JOKOH)
- 型番
- JN20
- 仕様・特徴
- ・最小サンプル量：8 ml
・処理可能最高粘度：100,000 cP
・最大流量：35 mL/min
・最大吐出量：200 MPa
・有機溶媒対応（アセトン、トルエン、NMPなど）
- 設備状況
- 稼働中
液体クロマトグラフィー質量分析計（LC/MS） (Liquid chromatography-mass spectrometry (LC-MS))
- 設備ID
- CT-028
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- アジレント (Agilent)
- 型番
- 6546LC/Q-TOF
- 仕様・特徴
- ・分解能：60,000
・高分子量領域：~30,000 m/z
・イオン源：ESI、APCI、マルチモードイオン源、ASAP
- 設備状況
- 稼働中
赤外線加熱単結晶製造装置（FZ炉） (Infrared image furnace for single crystal growth (Floating zone furnace))
- 設備ID
- CT-029
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- キヤノンマシナリー (Canon Machinery)
- 型番
- SC-M50XS
- 仕様・特徴
- ・光源：キセノンランプ
・最高加熱温度：2,700 ℃
・結晶成長速度：0.2~50 mm/h
- 設備状況
- 稼働中
試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス (Sample preparation devices・Spin coater・Spin coater・Glovebox)
- 設備ID
- CT-030
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ共和理研美輪製作所 (MikasaKYOWARIKENMiwa Manufacturing)
- 型番
- 1HD7 K-359S1 下置きガス循環精製装置付パージ式
- 仕様・特徴
- グローブボックス
・パージ式ガス置換型
・サイドボックスのみ真空引ガス置換構造
- 設備状況
- 稼働中
屈折率測定装置（プリズムカプラ） (Refractometer (Prism Coupler))
- 設備ID
- CT-031
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- メトリコン (Metricon)
- 型番
- Model 2010/M
- 仕様・特徴
- ・光源波長：633nm（He-Neレーザー）
・屈折率精度：±0.0005
・透明バルクおよび透明フィルムの高精度屈折率
・膜厚と屈折率の同時計測（10～15ミクロン膜厚まで）
- 設備状況
- 稼働中
分光蛍光光度計 (Spectrofluorometer)
- 設備ID
- CT-032
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- FP-8550
- 仕様・特徴
- ・測定波長範囲：200～850nm
- 設備状況
- 稼働中
X線回折装置（XRD） (X-ray diffractometer (XRD))
- 設備ID
- CT-033
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- D8 DISCOVER
- 仕様・特徴
- ・1次元粉末X線測定モジュール
・2次元広角/小角X線測定モジュール
・超小角（USAXS）測定モジュール
・GI-WAXD/SAXS測定モジュール
・高温試料チャンバー（室温~1100℃）
- 設備状況
- 稼働中
電子スピン共鳴装置（ESR） (Electron spin resonance spectrometer (ESR))
- 設備ID
- CT-034
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- E-500
- 仕様・特徴
- ・X-band 連続波発振 (約9 G Hz)
・TE011型円筒キャビティ装備（検出感度109 spins/Gauss)
・磁場変調周波数:12.5 KHz or 100 KHz
・外径5 mmφ石英試料管に適合
・簡易的な角度回転測定可能
- 設備状況
- 稼働中
電子線描画装置 (Electron beam lithography system)
- 設備ID
- GA-001
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-7500EX
- 仕様・特徴
- 加速電圧：50kV、30kV、20kV
描画可能な最小線幅10nm
フィールドつなぎ精度50nm 以下
描画対象：6インチまで対応可能
所要時間：線幅1μm／2インチウエハ；5～6時間
線幅10nm／2インチウエハ；4日間
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Mask-less exposure system)
- 設備ID
- GA-002
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 大日本科研 (Jpn.Sci.Eng.)
- 型番
- MX-1204
- 仕様・特徴
- DMDによるパターン生成露光、
光源:LD(波長375±5nm)
描画方法:直接描画
描画対象:150mm角、
最小描画精度:最小線幅1μm程度、
アライメント精度±0.15μm
- 設備状況
- 稼働中