共用設備検索結果
急速加熱理装置 (Rapid thermal annealing)
- 設備ID
- NU-202
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- AG Associates (AG Associates)
- 型番
- Heatpulse 610
- 仕様・特徴
- ・温度範囲：400～1200℃
・昇温速度：200℃/sec
電気炉 (Electric furnance)
- 設備ID
- NU-218
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
- 型番
- MODEL272-2
- 仕様・特徴
- ・温度範囲：400-1100℃
・ドライ酸化用
酸化・拡散炉 (Oxidization and diffusion furnance)
- 設備ID
- NU-219
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
- 型番
- MODEL270-M100
- 仕様・特徴
- ・温度範囲：600-1150℃
・ウェット酸化用
超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)
- 設備ID
- KT-117
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
- 型番
- SCRD401
- 仕様・特徴
- 超臨界CO2により微細構造物を変形・破壊せずに洗浄・乾燥が可能。
・基板サイズ：MAXΦ4
熱酸化炉 (Thermal Oxidation Furnace )
- 設備ID
- KT-207
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋サーモシステム(株) (Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
- 型番
- MT-8X28-A
- 仕様・特徴
- ドライまたはウェット状態でウエハの高温加熱が可能（常用最高温度1,050℃）
・基板サイズ：MAXΦ6×25枚/バッチ
・常用最高温度：1,050℃
・雰囲気：N2、O2（乾燥または湿潤状態）
レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System )
- 設備ID
- KT-215
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- AOV(株) (AOV Co., ltd.)
- 型番
- LAEX-1000
- 仕様・特徴
- KrFレーザーを結像マスクを介して真空チャンバー内のサンプルに縮小投影することで、ターゲット表面のアニーリングを実現。
・波長：248nm
・ビーム縮小率：7.95
・分解能：5.3μm＠L/S
高性能マッフル炉 (Muffle Furnace)
- 設備ID
- KT-229
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- アズワン(株) (AS ONE CORPORATION)
- 型番
- HPM-2N
- 仕様・特徴
- アズワン 高性能マッフル炉 HPM-2N
設定温度 １００℃～１２８０℃
赤外線ランプ加熱装置 (Rapid Thermal Annealing System)
- 設備ID
- KT-237
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- アドバンス理工(株) (ADVANCE RIKO, Inc.)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- 赤外線ランプを用いた汎用的な急速アニール装置。
・基板サイズ：MAXΦ6
・温度：RT～1100℃
・雰囲気：各種ガス（N2、Ar、H2/4%）、真空、大気
赤外線加熱単結晶製造装置（FZ炉） (Infrared image furnace for single crystal growth (Floating zone furnace))
- 設備ID
- CT-029
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- キヤノンマシナリー (Canon Machinery)
- 型番
- SC-M50XS
- 仕様・特徴
- ・光源：キセノンランプ
・最高加熱温度：2,700 ℃
・結晶成長速度：0.2~50 mm/h
超高温炉 (Rapid Thermal Annealing (RTA) System)
- 設備ID
- BA-022
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモ理工 (THERMO RIKO CO., LTD)
- 型番
- SR1800TS
- 仕様・特徴
- ・ 真空中で試料加熱を行うことができ、最大昇温速度は300℃/sec、最高到達温度は1800℃.
・ 昇温速度、熱処理時間等の詳細な熱処理条件をプログラムすることが可能.
・ 試料ホルダーはグラファイト製に加え、石英製も備えられており、酸化性雰囲気での熱処理も可能.
加熱方式：赤外線導入加熱方式、最高到達温度：1800℃、最大昇温速度：300℃/sec、最大到達真空度：5 × 10-5 Pa、加熱面積：φ15mm.