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走査型透過電子顕微鏡 (Scanning transmission electron microscope)

設備ID
HK-402
設置機関
北海道大学
設備画像
走査型透過電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
HD-2000
仕様・特徴
加速電圧:200kV
冷陰極電界放出電子銃
分析機能:EDS、EELS
設備状況
稼働中

集束イオンビーム加工装置 (Focused Ion Beam system)

設備ID
HK-403
設置機関
北海道大学
設備画像
集束イオンビーム加工装置
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
FB-2100
仕様・特徴
イオン加速電圧:5 ~ 30 kV
サイドエントリーステージ
バルクステージ
マイクロサンプリング機能
設備状況
稼働中

超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 (High resolution Field-emission scanning electron microscope)

設備ID
HK-404
設置機関
北海道大学
設備画像
超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
Regulus8230
仕様・特徴
加速電圧:0.5~30kV
分析機能:EDS
STEM機能
試料サイズ:6インチまで
遠隔画面共有
設備状況
稼働中

時間分解収差補正光電子顕微鏡システム (Time-resolved photoelectron emission microscope)

設備ID
HK-405
設置機関
北海道大学
設備画像
時間分解収差補正光電子顕微鏡システム
メーカー名
エルミテック (Elmitec)
型番
AC-PEEMIII
仕様・特徴
空間分解能:4nm以下
時間分解能:10fs以下
LEEM機能
設備状況
稼働中

X線光電子分光装置 (X-ray photoelectron spectrometer)

設備ID
HK-406
設置機関
北海道大学
設備画像
X線光電子分光装置
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JPS-9200
仕様・特徴
標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV(モノクロX線源)
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:3μmφ~3mmφ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20mm×50mm
設備状況
稼働中

精密イオン研磨装置 ( Precision ion polishing system)

設備ID
HK-407
設置機関
北海道大学
設備画像
精密イオン研磨装置
メーカー名
ガタン (Gatan)
型番
PIPSII
仕様・特徴
イオン加速電圧:1 ~ 6 kV
イオン入射角:最大±10°
液体窒素冷却装置
TVカメラ
設備状況
稼働中

大気中紫外光電子分光装置 (Photoemission Yield Spectroscopy in Air)

設備ID
HK-408
設置機関
北海道大学
設備画像
大気中紫外光電子分光装置
メーカー名
理研計器 (Riken Keiki)
型番
AC-3
仕様・特徴
測定エネルギー:4.0eV-7.0eV
設備状況
稼働中

顕微紫外可視近赤外分光装置 (UV/Vis/NIR Microscopic Spectrophotometer)

設備ID
HK-409
設置機関
北海道大学
設備画像
顕微紫外可視近赤外分光装置
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
MSV-5200
仕様・特徴
反射、透過測定
光電子増倍管、冷却型PbS光導電素子
測定波長域:200nm-2700nm
カセグレン対物32倍
自動XYZステージ
設備状況
稼働中

超高精度電子ビーム描画装置(100kV) (Ultra-high precision electron-beam lithography system(100kV))

設備ID
HK-601
設置機関
北海道大学
設備画像
超高精度電子ビーム描画装置(100kV)
メーカー名
エリオニクス (ELIONIX)
型番
ELS-7000HM
仕様・特徴
加速電圧:100kV
試料サイズ:最大6インチ
設備状況
稼働中

超高精度電子ビーム描画装置(125kV) (Ultra-high precision electron-beam lithography system(125kV))

設備ID
HK-602
設置機関
北海道大学
設備画像
超高精度電子ビーム描画装置(125kV)
メーカー名
エリオニクス (ELIONIX)
型番
ELS-F125
仕様・特徴
加速電圧:125kV
試料サイズ:最大6インチ
設備状況
稼働中
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