共用設備検索結果
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簡易電子顕微鏡 (Tabletop SEM)
- 設備ID
- UT-853
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- TM-3030Plus
- 仕様・特徴
- 卓上顕微鏡、EDX付
- 設備状況
- 稼働中
オージェ分光分析装置 (Auger Electron Spectroscopy)
- 設備ID
- UT-854
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- PHI680
- 仕様・特徴
- 元素分析装置。 対象の極表面から出て来るオージェ電子のエネルギー分光計測によって元素を調べることが出来る。
アルゴンミリングと併用でき、深さ方向のプロファイルを測定することができる。
- 設備状況
- 稼働中
高精細電子顕微鏡 (Ultra-high Resolution Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-855
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Regulus 8230
- 仕様・特徴
- 分解能は1 kVで0.7 nm。最高倍率は200万倍の電界放出電子源を用いた高分解能走査型電子顕微鏡
- 設備状況
- 稼働中
12インチプローバー (12inch Prober)
- 設備ID
- UT-856
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Cascade (Cascade)
- 型番
- Elite300
- 仕様・特徴
- シールドチャンバー付き
- 設備状況
- 稼働中
Elite300 附属電気特性測定装置 (Electronic measurement system attaced to Elite 300)
- 設備ID
- UT-857
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Cascade (Cascade)
- 型番
- Elite 300
- 仕様・特徴
- B1500A,DS090804A,N6705B,81160A,3498-A,DSO-Xを含むラック。MicroChamber、AttoGuard、AttoGuard、および PureLine テクノロジーを備えた半自動プローブ ステーション プラットフォーム。
- 設備状況
- 稼働中
電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-858
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子㈱ (JEOL)
- 型番
- JSM-6610LV Oxford X-max50 + Energy 250
- 仕様・特徴
- エネルギー分散型X線分析装置(元素分析装置)付きの走査電子顕微鏡です。
- 設備状況
- 稼働中
小型原子間力顕微鏡 (Atomin Force Microscope (AFM))
- 設備ID
- UT-859
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
- 型番
- SPA400+SPI4000
- 仕様・特徴
- 日立ハイテクサイエンス(旧SII社製)AFM。試料サイズ：φ35mm厚み10mm、スキャナー走査範囲：150μm×150μm（高さ5μm）、20μm×20μm（高さ1.5μm）、AFMモード、DFMモード
- 設備状況
- 稼働中
比抵抗測定器 (Specific electrical resistance tester)
- 設備ID
- UT-860
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 国際電気アルファ（日立国際電気） (Hitachi Kokusai Electric Inc.)
- 型番
- VR-120S
- 仕様・特徴
- ・測定可能ウェハーサイズ：76.2-300mm
・ 0.95秒／1点、1分／49点の高速処理
・浅いイオン注入層、薄い金属膜他の高精度測定
・シート抵抗分布が一目で分かるインテリジェントマッピング
・ Windowsライクな画面で操作性が飛躍的に向上
- 設備状況
- 稼働中
走査型プローブ顕微鏡 (Scanning Probe Microscope)
- 設備ID
- UT-861
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- L-traceⅡ
- 仕様・特徴
- □主な特長
・Z直進エラーの低減化
・S/N比向上と光ノイズ低減
・熱源抑制効果による低ドリフト化
□主な仕様
・分解能 面内0.5nm 垂直0.05nm
・試料サイズ 直径150mm厚さ12mmまで
・スキャン最大エリア90μmX90μm
□主な用途
・ 微細加工形状の評価
・ 薄膜の表面形状（粗さ）観察
- 設備状況
- 稼働中
全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760 (Total internal reflection fluorescence X-ray analyzer)
- 設備ID
- UT-862
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- （株）リガク (Rigaku Corporation)
- 型番
- TXRF 3760
- 仕様・特徴
- ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析。
液体窒素フリー検出器を備えた3ビームTXRFシステム。
ナトリウムからウランまでの元素検出が可能。
解析に時間と経験を要するため、当面技術代行（代行料が上乗せになる）にての公開。
- 設備状況
- 稼働中