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枚葉式ZEP520自動現像装置 (ZEP520 Auto Developing Machine)

設備ID
UT-506
設置機関
東京大学
設備画像
枚葉式ZEP520自動現像装置
メーカー名
アクテス京三 (Actes Kyosan)
型番
ADE-3000S(Big)
仕様・特徴
ZEP520電子線用レジストの自動現像装置
設備状況
稼働中

スプレーコーター  (Spray Coater)

設備ID
UT-507
設置機関
東京大学
設備画像
スプレーコーター
メーカー名
アクティブ (ACTIVE)
型番
ACT-300AⅡS
仕様・特徴
厚膜のレジストを塗布できるスプレーコーター
設備状況
稼働中

枚葉式自動リフトオフ装置 (Automatic liftoff system)

設備ID
UT-509
設置機関
東京大学
設備画像
枚葉式自動リフトオフ装置
メーカー名
エイ・エス・エイ・ピイ (ASAP)
型番
LOA34-8-5-09
仕様・特徴
リフトオフを自動で行い成功確立が上がります。
設備状況
稼働中

自動フォトマスクエッチング装置AEP-3000S (Auto Photomask Etching Machine)

設備ID
UT-510
設置機関
東京大学
設備画像
自動フォトマスクエッチング装置AEP-3000S
メーカー名
アクテス京三(株) (ActesKyosan Inc)
型番
AEP-3000S
仕様・特徴
東京大学の電子線描画装置を用いて5009サイズのフォトマスクを作製するために使用する自動クロムエッチング装置。
試料サイズ:Φ2ーΦ6インチ、または100x100mm
プログラム設定:1プログラム最大99ステップ、50プログラム保存可能
回転数: 0-3000rpm
開店時間: 0-999sec
ノズル:薬液 2系等、リンス 1系統
設備状況
稼働中

枚様式HMDS処理装置APPS-30 (Single-wafer type HMDS surface treatment machine)

設備ID
UT-512
設置機関
東京大学
設備画像
枚様式HMDS処理装置APPS-30
メーカー名
リソテックジャパン (Litho Tech Japan)
型番
APPS-30
仕様・特徴
シリコン表面(シラノールSi-O基)をHMDSでメチル基に置換疎水化し、レジスト現像時の密着性を改善する表面処理。スピンコーターを共用してHMDSを塗布すると、発生するアンモニアによって、レジストによっては悪影響が出る。本装置はHMDS塗布専用装置なので悪影響の心配が無い。
基板サイズ:2インチ~300mmウエハ
ベーク温度:60~150℃
HMDS供給:内臓バブリングシステム
設備状況
稼働中

クリーンドラフト潤沢超純水付 (Draft Chambers with DI water taps)

設備ID
UT-800
設置機関
東京大学
設備画像
クリーンドラフト潤沢超純水付
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
化学作業を行うためのいわゆる「ドラフトチャンバー」
クリーンルーム1にはアルカリ2台、酸1台、有機1台、
クリーンルーム2にはアルカリ2台、酸2台、有機1台。
全てに潤沢な超純水を取れる口があり、一度使うと湯水のごとく超純水が使えることに誰もが驚きます。
窒素ガンも用意してあり、洗ったサンプルを窒素ブローで乾かすこともできます。
設備状況
稼働中
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