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スピンコータ－ (Spin-coater)
- 設備ID
- GA-003
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (MIKASA)
- 型番
- MS-B150
- 仕様・特徴
- 回転塗布式 １ヘッド
真空吸着方式
試料サイズ：最大154mmφ1mmt
回転数：300–7000r.p.m
回転精度：±1r.p.m
回転時間：最大999.9sec（合計）
回転制御：プログラム方式・最大100段入力可
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )
- 設備ID
- GA-015
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
- 型番
- AD-1200（無機用），AD-1200（有機用）
- 仕様・特徴
- 基板サイズ：φ4"以下
基板ホルダー：真空吸着式
基板回転数：0～3000rpm 可変式
処理時間：999sec/stop（1sec単位）
使用薬液：無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法：スプレースイングアーム式
- 設備状況
- 稼働中
スピンコーター (Spin coater)
- 設備ID
- HK-707
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (MIKASA)
- 型番
- MS-B1000
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
- 設備状況
- 稼働中
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
- 設備ID
- KT-108
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KRC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式スピンコーター。
・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5
・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP）
・エッジリンス付
- 設備状況
- 稼働中
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
- 設備ID
- KT-109
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
- 型番
- USC-2000ST
- 仕様・特徴
- レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。
・基板サイズ：Φ4～6（塗布領域：MAX□4）
- 設備状況
- 稼働中
レジスト現像装置 ( Photoresist Developer)
- 設備ID
- KT-110
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。
・基板サイズ：Φ2～Φ6、□2.5、□5、不定形
・現像液：アルカリ（TMAH 2.38%）
・現像方式：スプレー、パドル
・対応レジスト：UVレジスト、EBレジスト（NEB22）ほか
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン洗浄装置 (Wafer Spin Cleaner )
- 設備ID
- KT-111
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KSC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式ウエハ洗浄装置。
・基板サイズ：Φ2-Φ6、□2.5、□5、□7、不定形
・洗浄方式：ピラニア、メガソニック、２流体、純水
- 設備状況
- 稼働中
有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer)
- 設備ID
- KT-114
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD(EB)-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式有機系現像装置。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、□30mm、□40mm
・現像液：有機溶剤系現像液、IPAリンス
- 設備状況
- 稼働中
高圧ジェットリフトオフ装置 (High Pressure Jet Lift-off System)
- 設備ID
- KT-118
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KLO-200SV1
- 仕様・特徴
- 高圧ジェット（NMP）を用いた枚葉式スピンリフトオフ装置。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形
・高温NMPによるレジスト膨潤（MAX80℃）
・MAX14MPaの高圧ジェットによるバリ＆再付着防止
- 設備状況
- 稼働中
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #1])
- 設備ID
- NM-605
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]](data/facility_item/NM-605.jpg)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・用途：洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・最大試料サイズ：φ8 inch
・その他：自動運転プログラム
- 設備状況
- 稼働中