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エリオニクス 130kV EB描画装置 (Elionix 130kV EB lithography)
- 設備ID
- TU-064
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-G125S
- 仕様・特徴
- 最大加速電圧:130kV
最小描画線幅:10nm以下
- 設備状況
- 稼働中
エリオニクス 50kV EB描画装置 (Elionix 50kV EB lithography)
- 設備ID
- TU-065
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-7500X
- 仕様・特徴
- 最大加速電圧:50kV
- 設備状況
- 稼働中
高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
- 設備ID
- UT-500
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像

- メーカー名
- アドバンテスト (ADVANTEST)
- 型番
- F5112+VD01
- 仕様・特徴
- ・長方形・矩形の大きさを任意に変更してショットする(可変整形)ことのできる高速電子線描画装置。
・カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応
・加速電圧50kV
- 設備状況
- 稼働中
超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
- 設備ID
- UT-503
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像

- メーカー名
- アドバンテスト (ADVANTEST)
- 型番
- F7000S-VD02
- 仕様・特徴
- カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応。R2年度補正予算改造により、更に高速性がアップしました。
(厚みに制限あり。ご相談ください)
可変整形ビーム(VSBモード)による、高速描画が可能
内蔵ステンシル(CPモード)による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能。
データはGDS-IIストリームフォーマットから変換
- 設備状況
- 稼働中
電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)
- 設備ID
- WS-015
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像

- メーカー名
- 株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
- 型番
- ELS-7500
- 仕様・特徴
- 最小線幅:10 nm
基板サイズ10mm角~4インチ
加速電圧:5~50 kV
- 設備状況
- 稼働中