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エリオニクス 130kV EB描画装置 (Elionix 130kV EB lithography)

設備ID
TU-064
設置機関
東北大学
設備画像
エリオニクス 130kV EB描画装置
メーカー名
エリオニクス (Elionix)
型番
ELS-G125S
仕様・特徴
最大加速電圧:130kV
最小描画線幅:10nm以下
設備状況
稼働中

エリオニクス 50kV EB描画装置 (Elionix 50kV EB lithography)

設備ID
TU-065
設置機関
東北大学
設備画像
エリオニクス 50kV EB描画装置
メーカー名
エリオニクス (Elionix)
型番
ELS-7500X
仕様・特徴
最大加速電圧:50kV
設備状況
稼働中

高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)

設備ID
UT-500
設置機関
東京大学
設備画像
高速大面積電子線描画装置
メーカー名
アドバンテスト (ADVANTEST)
型番
F5112+VD01
仕様・特徴
・長方形・矩形の大きさを任意に変更してショットする(可変整形)ことのできる高速電子線描画装置。
・カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応
・加速電圧50kV
設備状況
稼働中

超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)

設備ID
UT-503
設置機関
東京大学
設備画像
超高速大面積電子線描画装置
メーカー名
アドバンテスト (ADVANTEST)
型番
F7000S-VD02
仕様・特徴
カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応。R2年度補正予算改造により、更に高速性がアップしました。
(厚みに制限あり。ご相談ください)
可変整形ビーム(VSBモード)による、高速描画が可能
内蔵ステンシル(CPモード)による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能。
データはGDS-IIストリームフォーマットから変換
設備状況
稼働中

電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)

設備ID
WS-015
設置機関
早稲田大学
設備画像
電子ビーム描画装置
メーカー名
株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
型番
ELS-7500
仕様・特徴
最小線幅:10 nm
基板サイズ10mm角~4インチ
加速電圧:5~50 kV
設備状況
稼働中
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