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マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
- 設備ID
- NU-231
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
- 型番
- DL-1000
- 仕様・特徴
- ・最大露光面積:200 mm x 200 mm
・最小画素:1 µm(高精細露光機能付)
・つなぎ合わせ精度:0.1 µm
・重ね合わせ精度:±1 µm
・オートフォーカス機能有
- 設備状況
- 稼働中
レーザ描画装置 (Laser lithography)
- 設備ID
- NU-244
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- mPG101-UV
- 仕様・特徴
- ・対応基板:100 mm ×100 mm
・加工精度:3 µm
・最小アドレスグリッド:100 nm
・対応データ:DXF,CIF,BMP
- 設備状況
- 稼働中
3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system)
- 設備ID
- NU-246
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO)
- 型番
- Photonic Professional SCLEAD3CD2000
- 仕様・特徴
- Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度:100 nm
・3次元加工精度:150 nm
・対応データ:DXF, STL
KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度:100 ℃
・設計圧力:20 MPa
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
- 設備ID
- NU-260
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像

- メーカー名
- ネオアーク (NEOARK)
- 型番
- PALET DDB-701-DL4
- 仕様・特徴
- ・露光領域:100mm x 100mm
・最大ワークサイズ:Φ150mm x 10mm
・光源:365nm LED
・最小画素:3µm(対物レンズx10),15µm(対物レンズx2)
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
- 設備ID
- RO-112
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像

- メーカー名
- 株式会社ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
- 型番
- DL-1000
- 仕様・特徴
- 対応wafer:2~4inch、cut wafer他
DMDを用いたレーザー露光装置
最小画素:1μm
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
- 設備ID
- RO-113
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像

- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- 対応wafer:2~6inch、cut wafer他
DMDを用いたレーザー露光装置
レーザ光源:375nm 7.2W 最小画素:1μm
- 設備状況
- 稼働中
マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment)
- 設備ID
- TT-005
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像

- メーカー名
- 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
- 型番
- MX-1204
- 仕様・特徴
- φ4インチにポジ型フォトレジスト(膜厚1μm以上)に、2μm幅のラインアンドスペースを全面(外周3mm除く)に描いたときに、描画時間が30分程度。
露光パターン幅のバラツキが100 nm(1σ)以下。
- 設備状況
- 稼働中
レーザ描画装置 (Laser writer)
- 設備ID
- TU-057
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL2000CE
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~9インチ
波長:405nm
最小描画線幅:0.7µm
- 設備状況
- 稼働中
マスクレスアライナ (Maskless aligner)
- 設備ID
- TU-058
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
波長:405nm 、375nm
最小描画線幅:1µm
- 設備状況
- 稼働中
球面露光装置 (Maskless exposure system for ball)
- 設備ID
- TU-068
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像

- メーカー名
- 東栄科学産業 (Toei Scientific Instruments)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプル:球体(直径1.0、3.3mm)
最小パターン:1.5µmハーフピッチ
アライメント精度:±5µm
- 設備状況
- 稼働中