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両面アライナ(8") (Double-side aligner)
- 設備ID
- TU-069
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SUSS (SUSS)
- 型番
- MA8/BA8 Gen3
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
露光波長：ブロードバンド、i線
最小露光線幅：～0.7um
アライメント精度（片面）：～1um
アライメント精度（両面）：～3um
- 設備状況
- 稼働中
光リソグラフィ装置PEM800 (Photomask aligner PEM-800)
- 設備ID
- UT-502
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユニオン (UNION)
- 型番
- PEM800
- 仕様・特徴
- 光によるリソグラフィを行う装置。
いわゆる両面4”マスクアライナーと呼ばれる装置。
マスクは5009、4009、2509サイズを取り付け可能。
- 設備状況
- 稼働中
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
- 設備ID
- UT-504
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズースマイクロテック (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA6
- 仕様・特徴
- 精密な位置合わせ（表裏1ミクロン精度）が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナー。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。
- 設備状況
- 稼働中
紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)
- 設備ID
- WS-014
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
- 型番
- MA6/BA6
- 仕様・特徴
- ズースマイクロテック社製MA6
小片～4インチまで露光可能
最小線幅1μm
UV両面マスクアライナー
- 設備状況
- 稼働中