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コンタクトマスクアライナー[MJB4] (Contact Mask Aligner〔MJB4〕)
- 設備ID
- AT-009
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![コンタクトマスクアライナー[MJB4]](data/facility_item/AT-009.jpg)
- メーカー名
- ズース (SUSS MicroTec)
- 型番
- MJB4
- 仕様・特徴
- ・型式:MJB4
・基板サイズ:2インチφ～4インチφ、不定形小片～100mm
・解像度:約800nm (バキュームコンタクト使用時)
・波長:g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)
・ 照度 :約25mW/cm2
・露光モード:プロキシミティ、ソフトコンタクト、 ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト、 バキュームコンタクト
・露光領域:2.5～5インチ対応マスクホルダー(最大40mm□)
4インチ, 5インチ対応マスクホルダー 最大110mmφ
- 設備状況
- 稼働中
微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー） (Photolithography system (Mask aligner, Spincoater))
- 設備ID
- BA-011
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- Neutronix-Quintel/ミカサ ( Neutronix-Quintel/Mikasa)
- 型番
- Q 2001CT/MS-A100
- 仕様・特徴
- Neutronix-Quintel社製Q 2001CT（2.5インチマスク用コンタクトアライナー）
マスク-ウエハ間隔；0-180μm
基板；1cm角～４インチφ マスク；2.5インチ角、5インチ角
光源；200W水銀ランプ(350~450nm)
解像度；0.6～1.0μm
マニュアルアライメント；1.0μm
照度分布；≤5%@3.5インチφ
ミカサ社製MS-A100（スピンコーター）
基板: 5mm角から4インチφまで
- 設備状況
- 稼働中
マスクアライナ (Mask aligner)
- 設備ID
- HK-606
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (MIKASA)
- 型番
- MA-20
- 仕様・特徴
- コンタクト露光
試料サイズ：最大4インチ
マスクサイズ：最大5インチ
- 設備状況
- 稼働中
両面マスクアライナ (Double-side alignment Mask aligner)
- 設備ID
- HK-702
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズースマイクロテック (SUSS)
- 型番
- MA-6
- 仕様・特徴
- 両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角
- 設備状況
- 稼働中
コンタクト光学露光装置 (Contact optical exposure)
- 設備ID
- IT-005
- 設置機関
- 国立大学法人 東京科学大学（旧：国立大学法人 東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- ズース ( Süss)
- 型番
- MA-8
- 仕様・特徴
- ・アシスト機能装備、TSA/BSA装備
・表面アライメント制度 TSA：±0.25μm以下 BSA：±1.00μm以下
・露光解像度 0.5μm
・対応基板 小片～直径2inch ウェハ
- 設備状況
- 稼働中
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-106
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
- 型番
- MA-10
- 仕様・特徴
- 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。
・光源：高圧UVランプ250W（g、h、i線）～10mW/cm2
・基板サイズ：MAXΦ4（不定形対応）
・マスクサイズ：□5、□2.5
・基板厚さ：MAX2mm
- 設備状況
- 稼働中
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
- 設備ID
- KT-107
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- DELTA80 T3/VP SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、小片基板
・対応レジスト：タンク圧送（10～400cP、800～4,000cP）、シリンジ圧送（10～600cP）
・溶剤リンス：パドル、エッジビード、バックサイド
・GRYSET方式対応
・付帯設備：ホットプレート、ベーパープライマ（HMDS）
- 設備状況
- 稼働中
両面マスク露光&ボンドアライメント装置 (Double-Sided/Infrared Mask Lithography & Bond Aligner )
- 設備ID
- KT-119
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 接合用アライメントとUVナノインプリント機能を兼備した複合装置。（マスクアライナー機能を兼備）
・基板サイズ：小片～Φ8"
・ウエハ厚さ：MAX 5mm
・マスクサイズ：MAX □9"
・アライメント精度：±0.25um＠表面、±1.0um＠裏面、±2.0um＠接合
- 設備状況
- 稼働中
移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
- 設備ID
- KT-153
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
- 型番
- MUM-0001
- 仕様・特徴
- UV露光中にマスクを周期移動させることで3次元微細構造を実現。
・基板サイズ：Φ4
・3次元微細構造製作可能
- 設備状況
- 稼働中
両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-154
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.)
- 型番
- PEM-800
- 仕様・特徴
- 実験用両面マスクアライナ
・基板サイズ：Φ4
・マスクサイズ：□5
・両面露光、アライメント機能
- 設備状況
- 稼働中