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試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス (Sample preparation devices・Spin coater・Spin coater・Glovebox)

設備ID
CT-030
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス
メーカー名
ミカサ共和理研美輪製作所 (MikasaKYOWARIKENMiwa Manufacturing)
型番
1HD7 K-359S1 下置きガス循環精製装置付パージ式
仕様・特徴
グローブボックス
・パージ式ガス置換型
・サイドボックスのみ真空引ガス置換構造
設備状況
稼働中

屈折率測定装置(プリズムカプラ) (Refractometer (Prism Coupler))

設備ID
CT-031
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
屈折率測定装置(プリズムカプラ)
メーカー名
メトリコン (Metricon)
型番
Model 2010/M
仕様・特徴
・光源波長:633nm(He-Neレーザー)
・屈折率精度:±0.0005
・透明バルクおよび透明フィルムの高精度屈折率
・膜厚と屈折率の同時計測(10~15ミクロン膜厚まで)
設備状況
稼働中

分光蛍光光度計 (Spectrofluorometer)

設備ID
CT-032
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
分光蛍光光度計
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
FP-8550
仕様・特徴
・測定波長範囲:200~850nm
設備状況
稼働中

X線回折装置(XRD) (X-ray diffractometer (XRD))

設備ID
CT-033
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
X線回折装置(XRD)
メーカー名
ブルカー (Bruker)
型番
D8 DISCOVER
仕様・特徴
・1次元粉末X線測定モジュール
・2次元広角/小角X線測定モジュール
・超小角(USAXS)測定モジュール
・GI-WAXD/SAXS測定モジュール
・高温試料チャンバー(室温~1100℃)
設備状況
稼働中

電子スピン共鳴装置(ESR) (Electron spin resonance spectrometer (ESR))

設備ID
CT-034
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
電子スピン共鳴装置(ESR)
メーカー名
ブルカー (Bruker)
型番
E-500
仕様・特徴
・X-band 連続波発振 (約9 G Hz)
・TE011型円筒キャビティ装備(検出感度109 spins/Gauss)
・磁場変調周波数:12.5 KHz or 100 KHz
・外径5 mmφ石英試料管に適合
・簡易的な角度回転測定可能
設備状況
稼働中

電子線描画装置 (Electron beam lithography system)

設備ID
GA-001
設置機関
香川大学
設備画像
電子線描画装置
メーカー名
エリオニクス (Elionix)
型番
ELS-7500EX
仕様・特徴
加速電圧:50kV、30kV、20kV
描画可能な最小線幅10nm
フィールドつなぎ精度50nm 以下
描画対象:6インチまで対応可能
所要時間:線幅1μm/2インチウエハ;5~6時間
線幅10nm/2インチウエハ;4日間
設備状況
稼働中

マスクレス露光装置 (Mask-less exposure system)

設備ID
GA-002
設置機関
香川大学
設備画像
マスクレス露光装置
メーカー名
大日本科研 (Jpn.Sci.Eng.)
型番
MX-1204
仕様・特徴
DMDによるパターン生成露光、
光源:LD(波長375±5nm)
描画方法:直接描画
描画対象:150mm角、
最小描画精度:最小線幅1μm程度、
アライメント精度±0.15μm
設備状況
稼働中

スピンコータ- (Spin-coater)

設備ID
GA-003
設置機関
香川大学
設備画像
スピンコータ-
メーカー名
ミカサ (MIKASA)
型番
MS-B150
仕様・特徴
回転塗布式 1ヘッド
真空吸着方式
試料サイズ:最大154mmφ1mmt
回転数:300–7000r.p.m
回転精度:±1r.p.m
回転時間:最大999.9sec(合計)
回転制御:プログラム方式・最大100段入力可
設備状況
稼働中

デュアルイオンビ-ムスパッタ装置 (Dual ion beam sputtering system)

設備ID
GA-004
設置機関
香川大学
設備画像
デュアルイオンビ-ムスパッタ装置
メーカー名
ハシノッテク (Hashino-tech)
型番
10W-IBS
仕様・特徴
4in-IBS
熱陰極型イオン源:2基(:50~1000eV)
基板加熱温度:最大700゜C
膜形成中のイオン同時照射機能
イオンビ-ムエッチング機能
【ビームガン1:エッチング用】
イオン銃:熱陰極型
イオン化ガス:Ar
ビーム電圧:100~1200V
ビーム電流:50~300mA
加速電圧:75~500V
イオン流密度:0.3~0.6mA/cm2 (500V加速時)
ビーム有効径:φ4インチ(分布測定可能)
真空度:~8x10-5Pa
試料寸法:φ4インチまで
【ビームガン2:デポジション用】
イオン銃:熱陰極型
イオン化ガス:Ar
ビーム電圧:100~1200V
ビーム電流:50~300mA
加速電圧:75~500V
ターゲット:Au、Cr、Tiほか
ステージ角度:ターゲットに対し-90~+90℃設定可
ステージ位置:上下50mm調整可
真空度:~8x10-5Pa
試料寸法:φ4インチまで
設備状況
稼働中

触針式表面形状測定器 (Stylus-type surface shape measuring system)

設備ID
GA-005
設置機関
香川大学
設備画像
触針式表面形状測定器
メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
Dektak8
仕様・特徴
測定分解能:最小:0.1nm
垂直分解能/レンジ:1Å/65kÅ、10Å/655kÅ、40Å/2620kÅ
サンプルサイズ:直径210mm
測定長さ:50μm〜50mm
最大サンプリング数:30,000点
測定加重:1〜15mg
自動多点測定数:最高200点
サンプル観察:
トップビュー(低倍率カラー)10mm
サイドビュー(高倍率カラー)1mm
測定再現性:1nm以下
設備状況
稼働中
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