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マイクロ波プラズマCVD装置 (Mircowave plasma enhanced CVD)
- 設備ID
- IT-033
- 設置機関
- 国立大学法人 東京科学大学（旧：国立大学法人 東京工業大学）
- 設備画像
- メーカー名
- アリオス (Arios)
- 型番
- DCVD-601BTG
- 仕様・特徴
- マイクロ波周波数 2.45 GHz、マイクロ波パワー 最大6 kW、水素・メタンガスによるダイヤモンド合成、窒素ガスによる不純物ドーピング、基板サイズ 50mmΦまで 窒素を添加することで、現在注目されている量子センサである窒素－空孔（NV）センタを作ることも可能です。
- 設備状況
- 稼働中
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