共用設備検索結果
中分類から探す
表示件数
分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometer)
- 設備ID
- AT-063
- 設置機関
- 産業技術総合研究所(AIST)
- 設備画像

- メーカー名
- 堀場 Jovin-Yvon (Horiba Jovin-Yvon)
- 型番
- UVISEL-M200-FUV-FGMS
- 仕様・特徴
- ・型式:UVISEL-M200-FUV-FGMS
・試料サイズ:150mmφ
・ステージ上下調整幅:20mm
・波長範囲:190~826nm(1.5~6.5eV)
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメータ (Ellipsometer)
- 設備ID
- BA-019
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像

- メーカー名
- 堀場製作所 (Horiba)
- 型番
- UVISEL Plus
- 仕様・特徴
- PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター
測定波長:190~2100 nm(波長分解能力:2 nm)
スポットサイズ:0.05, 0.1, 1mmφ(垂直入射時)を選択
- 設備状況
- 稼働中
エリプソメータ (Film thickness measuring system)
- 設備ID
- GA-012
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像

- メーカー名
- 溝尻光学 (Mizojiri-opt)
- 型番
- DHA-XA/M8
- 仕様・特徴
- 膜厚と屈折率を測定可能
処理物:~12インチウェハ 光源波長:632.8nm(He-Neレーザー)
入射角:55°~75°,90°
入射角設定単位:0.01°
最小分解能:1Å
分布計測分解能:0.01mm
- 設備状況
- 稼働中
エリプソメータ (Ellipsometry)
- 設備ID
- HK-706
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- M-500S
- 仕様・特徴
- Xe光源, 測定波長:350~800nm, 試料水平置き
- 設備状況
- 稼働中
エリプソメーター [MARY-102FM] (Ellipsometer [MARY-102FM])
- 設備ID
- NM-625
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![エリプソメーター [MARY-102FM]](data/facility_item/NM-625.jpg)
- メーカー名
- ファイブラボ (five Lab)
- 型番
- MARY-102FM
- 仕様・特徴
- ・用途:絶縁膜形成評価
・光源:632nm He-Neレーザー
・ビーム径:0.8mm
・入射角:50°,60°,70°
・最大試料サイズ:φ6inch
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメーター [M2000] (Spectroscopic Ellipsometer [M2000])
- 設備ID
- NM-655
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![分光エリプソメーター [M2000]](data/facility_item/1687417245_11.jpg)
- メーカー名
- ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社 (J.A.Woollam Co., Inc.)
- 型番
- M2000
- 仕様・特徴
- ・波長範囲:250 ~ 1000 nm
・補償子:回転式
・入射角:自動制御、45~90°
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメーター [UNECS-2000A] (Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A])
- 設備ID
- NM-663
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![分光エリプソメーター [UNECS-2000A]](data/facility_item/1709196827_11.jpg)
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様・特徴
- 1. 光源:ハロゲンランプ
2. 波長範囲:530~750 nm
3. スポット径:1mm
4. 入射角:70°固定
5. 試料サイズ:最大φ200mm
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメーター (Spectroscopic Ellipsometer)
- 設備ID
- NR-702
- 設置機関
- 奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST)
- 設備画像

- メーカー名
- 堀場ージョバンイボン (HORIBA JOBIN YVON)
- 型番
- UVISEL ER AGMS-NSD
- 仕様・特徴
- ・波長範囲: 0.6 eV 〜 6.0 eV(206 nm 〜2066 nm )
・スポット径: 約 5 mm * 2 mm
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)
- 設備ID
- RO-531
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像

- メーカー名
- J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
- 型番
- M2000-D
- 仕様・特徴
- 測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193~1000nm、
- 設備状況
- 稼働中
エリプソメーター (Ellipsometer)
- 設備ID
- TT-016
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像

- メーカー名
- ガ-トナ- (Gartner Sci. Corp.)
- 型番
- LSE
- 仕様・特徴
- ・シリコン酸化膜あるいはSiN膜等の単層あるいは2層膜の膜厚測定
・φ6インチ以下基板
- 設備状況
- 稼働中