共用設備検索
共用設備検索結果
- 設備ID
- BA-006
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- Bruker (Bruker)
- 型番
- Dimension Icon
- 仕様・特徴
- 形状測定モード:
タッピングモード, コンタクトモード
物性測定モード：
電気・磁気特性（EFM/SSRM/KPFM/MFM他）
機械特性（粘弾性/水平力）
試料サイズ：直径 <Φ150mm, 厚さ <10mm
最大スキャン範囲：XY 90μmx90μm, Z 10μm
Z方向ノイズ：0.03nm RMS
測定環境：大気中, 液中（要相談）
- 設備ID
- BA-008
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SU-8020
- 仕様・特徴
- 二次電子分解能；1.0nm（加速電圧15kV,WD=4mm） 1.3nm（照射電圧1kV,WD=1.5mm）
照射電圧；0.1～30kV
低倍率モード；20～2,000倍（写真倍率）
高倍率モード；100～800,000倍（写真倍率）
SE/BSE信号可変方式
- 設備ID
- AT-004
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM]](data/facility_item/1651474199_14.jpg)
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S4800
- 仕様・特徴
- ・型式:S-4800
・試料サイズ:15～150 mmφ
・電子銃:冷陰極電界放出型電子銃
・加速電圧:0.5～30 kV
・分解能:1.0 nm(加速電圧15 kV, WD = 4 mm)
・試料ステージ制御:5軸モーター制御
・可動範囲:X,Y:0～110 mm、Z:1.5～40 mm、R:360°、T:-5～70°
・検出器:2次電子検出器、エネルギー分散型X線検出器（EDX）
- 設備ID
- AT-005
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S-3500N
- 仕様・特徴
- ・型式:S-3500N（日立ハイテク）
・試料サイズ:15～150 mmφ
・電子銃:熱電子放出型Wヘアピンフィラメント
・加速電圧:0.3～30 kV
・分解能:高真空二次電子像:3.0 nm
・低真空反射電子像:5 nm
・低真空モードでの真空度設定:1～270 Pa
・試料ステージ:五軸モーター駆動
・可動範囲:100 mm×50 mm
・元素分析:エネルギー分散型X線検出器（EDX）
- 設備ID
- AT-046
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![走査プローブ顕微鏡SPM_1[NanoscopeⅣ/Dimension3100]](data/facility_item/AT-046.jpg)
- メーカー名
- デジタルインスツルメンツ (Veeco/Digital Instruments )
- 型番
- NanoscopeⅣ/Dimension3100
- 仕様・特徴
- ・型式:NanoscopeⅣ/Dimension3100（Veeco社製）
・試料サイズ:150 mm以内（面範囲）、12 mm（高さ範囲）
・試料固定:真空チャック
・測定範囲:90 μm×90 μm（面範囲）、6 μm以内（高さ範囲）
・測定精度:最大2%（最大レンジ幅）
- 設備ID
- AT-047
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![走査プローブ顕微鏡SPM_2[SPM-9600/9700]](data/facility_item/AT-047.jpg)
- メーカー名
- 島津製作所 (SHIMADZU)
- 型番
- SPM-9700
- 仕様・特徴
- ・型式:SPM-9700
・試料サイズ:24mmφ×8mm
・試料固定:マグネットによる固定
・スキャナ走査範囲:125μm×125μm×7μm
・分解能: 0.2nm（水平）、0.01nm（垂直）
・測定モード:ダイナミック、コンタクト、位相、電流、表面電位（KFM）
- 設備ID
- AT-048
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![ナノサーチ顕微鏡SPM_3[SFT-3500]](data/facility_item/1651474557_14.jpg)
- メーカー名
- 島津製作所 (SHIMADZU)
- 型番
- SFT_3500
- 仕様・特徴
- ・型式:SFT_3500
・試料サイズ:6インチφ、最大高さ:54.5mm
・ステージストローク:100×100mm
LSM部
・観察視野:2,560μm～21μm
・対物レンズ:5×, 20×, 100× （光学ズーム 1×～6×）
SPM部
・最大走査範囲:30μm（X,Y）、4μm（Z）
・垂直分解能：0.1nm程度
・検出方式:光てこ方式
・測定モード:ダイナミックモード（タッピングモード）、コンタクトモード、位相モード、表面電位モード[KFM]、電流モード
- 設備ID
- AT-088
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S4500
- 仕様・特徴
- ・型式:S-4500
・試料サイズ:50 mmφ
・電子銃:冷陰極電界放出型電子銃
・加速電圧:0.5～30 kV
・分解能:1.5 nm (加速電圧15 kV, WD = 4 mm)
・試料ステージ制御:5軸モーター制御
・可動範囲:X:0～25 mm、Y:0～25 mm、Z:3～28 mm、R:360°、T:-5～45°
・検出器:2次電子検出器(2系統)
- 設備ID
- AT-107
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (ELIONIX)
- 型番
- ERA-9200
- 仕様・特徴
- ・型式:ERA-9200
・試料サイズ:4インチφ, 16mmt
・電子銃:ZrO/W熱電界放射型
・加速電圧:1～30 kV
・リタ―ディング電圧:3kV
・分解能:0.4nm以下（30kV）、0.5nm以下（15kV）、0.7nm以下（1kV）
・可動範囲:30×50mm（X-Y）、1～30mm（Z）、-5～45°（Tilt）
・検出器:2次電子検出器（４本）
- 設備ID
- AT-504
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- (1) RSPM1: 日本電子、(2) RSPM2: SII（現・日立ハイテクサイエンス） ((1) RSPM1: JEOL, (2) RSPM2: SII (Hitachi Hitech Scinece))
- 型番
- (1) RSPM1:日本電子(JEOL)社製JSPM5400、(2) RSPM2:SIIナノテクノロジー（現・日立ハイテクサイエンス）社E-SWEEP/S-Image
- 仕様・特徴
- (1) RSPM1
分光（赤外）原子間力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡
・型式: JEOL JSPM5400、E-SWEEP他
・設置室名: 2-1D棟125室
・測定機能: AM-AFM、FM-AFM、コンタクトモード、STM、KPFM、EFM、高分解能赤外分光
・測定環境: 大気中、液中、真空中(10-5 [Torr])、超高真空(10-10 [Torr]、使用機能に制限あり)
・温度範囲: 室温～ 300 ℃(ヒータのみ、制御なし)
・試料サイズ: 最大300 mmウエハー（測定手法によっては寸法（1mm角等）や厚さの制限有）
・液中リアルタイム測定可能（毎秒10フレーム）
・空間分解能<100nmのナノ赤外分光
(2) RSPM2
SIIナノテクノロジ S-ImageおよびE-SWEEP
・測定機能: AM-AFM、コンタクトモード、STM、KFM、Conductive-AFM
・制御装置: 1台のNanonaviをS-ImageおよびE-SWEEPで切り替えて利用
・測定環境: 大気中、恒湿度雰囲気(20～70%)、液中、真空中(10-5[Torr])
・温度範囲(E-SWEEP): -100 ℃ ～ 300 ℃(ヒータのみ、制御なし)
・試料サイズ: 最大15 mm角程度
前処理装置等
・標準試料: 探針評価、スケール、段差等
・研磨機、プラズマクリーナ、白色干渉計、反射分光膜厚計、化学ドラフト
"走査型顕微鏡"で検索した結果 111件
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