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クリーンドラフト潤沢超純水付 (Draft Chambers with DI water taps)

設備ID
UT-800
設置機関
東京大学
設備画像
クリーンドラフト潤沢超純水付
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
化学作業を行うためのいわゆる「ドラフトチャンバー」
クリーンルーム1にはアルカリ2台、酸1台、有機1台、
クリーンルーム2にはアルカリ2台、酸2台、有機1台。
全てに潤沢な超純水を取れる口があり、一度使うと湯水のごとく超純水が使えることに誰もが驚きます。
窒素ガンも用意してあり、洗ったサンプルを窒素ブローで乾かすこともできます。
設備状況
稼働中

イナートガスオーブン (Inert Gas Oven)

設備ID
UT-801
設置機関
東京大学
設備画像
イナートガスオーブン
メーカー名
光洋サーモシステム (Koyo Thermo Systems)
型番
INH-9CD
仕様・特徴
窒素ガスを導入して、窒素雰囲気でプログラムした通りにベークできる電気炉。600℃まで昇温可能。残留ガス濃度20ppm (カタログスペック)
設備状況
稼働中

高速ランプアニール装置 (Lamp Annealer)

設備ID
UT-802
設置機関
東京大学
設備画像
高速ランプアニール装置
メーカー名
米倉製作所 (YONEKURA MFG)
型番
MS-HP2-9
仕様・特徴
φ3inchまで(条件によってφ4inchまで可能)。大気および窒素雰囲気。昇温速度200℃/minまで、到達温度1000℃まで可能。
設備状況
稼働中

サンドブラスト (Sandblasting Machine)

設備ID
UT-803
設置機関
東京大学
設備画像
サンドブラスト
メーカー名
不二製作所 (Fuji Manufacturing)
型番
仕様・特徴
クリーンルーム対応装置。アルミナ粉末によってブラスト加工ができます
設備状況
稼働中

UVオゾンクリーナー  (UV ozone cleaner)

設備ID
UT-804
設置機関
東京大学
設備画像
UVオゾンクリーナー
メーカー名
サムコ (SAMCO)
型番
UV-1
仕様・特徴
レジスト等のアッシング処理が可能
設備状況
稼働中

プラズマ表面改質装置  (Plasama Surface Modificaton Equipment)

設備ID
UT-805
設置機関
東京大学
設備画像
プラズマ表面改質装置
メーカー名
サムコ (SAMCO)
型番
AQ-50
仕様・特徴
特にポリマーの接合前の表面処理、超臨界流体製膜前処理、親水化処理が可能。
設備状況
稼働中

拡散炉 (Diffusion furnace)

設備ID
UT-806
設置機関
東京大学
設備画像
拡散炉
メーカー名
ジェイテクト(旧光洋サーモシステム(株)) (JTEKT(formaly Koyo Thermosystem))
型番
MT-2-8X32-A
仕様・特徴
ポロンの熱拡散が可能。
最高温度1150℃
設備状況
稼働中

酸化炉 (Oxidation furnace)

設備ID
UT-807
設置機関
東京大学
設備画像
酸化炉
メーカー名
ジェイテクト(旧光洋サーモシステム(株)) (JTEKT(formaly Koyo Thermosystem))
型番
MT-2-8X32-AS
仕様・特徴
シリコン基板の熱酸化膜を作製できる。
最高温度1150℃
設備状況
稼働中

アニール炉 (Anneal funace)

設備ID
UT-808
設置機関
東京大学
設備画像
アニール炉
メーカー名
ジェイテクト(旧光洋サーモシステム(株)) (JTEKT(formaly Koyo Thermosystem))
型番
MT-2-8X32-AS
仕様・特徴
試料の熱処理ができる。
最高温度1150℃
設備状況
稼働中

一般用ドラフトチャンバー (Fume hood)

設備ID
UT-809
設置機関
東京大学
設備画像
一般用ドラフトチャンバー
メーカー名
エスコライフサイエンス (Esco Lifesciences)
型番
Fronrier Acela
仕様・特徴
各種科学実験用のドラフトチャンバーです。
・三重壁構造高性能排気フード 。5°傾斜前面サッシュデザイン。 0.3 m/sの表面風速で封じ込め。
設備状況
稼働中
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