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レーザー描画装置〔DWL66+〕 (Laser Beam Lithography)
- 設備ID
- AT-110
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL66+
- 仕様・特徴
- ・型式:DWL66+
・試料サイズ:8インチφ、200mm×200mm×12mmt
・最小角型試料サイズ： 5mm×5mm
・描画エリア:200mm×200mm
・レーザー光源:405nm
・最小描画パターン:0.5μm （L&S）、0.3μm（孤立パターン）
・重ね合わせ描精度:0.25μm(5mm×5mm以内)、0.5μm(100mm×100mm以内)
・裏面パターンとの重ね合わせ精度：1μm
・グレースケール露光:1000階調
- 設備状況
- 稼働中
陽電子プローブマイクロアナライザー(PPMA) (Positron Probe MicroAnalyzer (PPMA))
- 設備ID
- AT-501
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 産総研自主開発 (AIST Original)
- 型番
- 仕様・特徴
- 電子の反粒子である陽電子のマイクロビームを作り、物質中の陽電子寿命のマッピング測定を行う装置。
原子が1個抜けた原子空孔、ナノボイドのサイズ、分布の評価が可能。
・陽電子源 ： 電子加速器対生成方式
・陽電子ビーム径 ： 0.01 mm ～ 10 mm
・陽電子ビームエネルギー ： 1-30 keV
・寿命測定時間分解能 ： 200-300 ps
- 設備状況
- 稼働中
超伝導蛍光収量Ｘ線吸収微細構造分析装置 (SC-XAFS) (X-ray Absorption Fine Structure Spectroscopy with a Superconducting Fluorescence Detector (SC-XAFS))
- 設備ID
- AT-502
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 産総研自主開発 (AIST Original)
- 型番
- 仕様・特徴
- エネルギー分散超伝導検出器を搭載し、母材中の微量軽元素や重い元素のL、M線のＸ線吸収微細構造測定により、特定の微量元素の原子スケール構造解析を行う。省エネ半導体ドーパント、酸化物、磁性体などの原子配位や電子状態を評価する。
・蛍光Ｘ線エネルギー分解能 ： 10 eV
・エネルギー範囲 ： 70eV-5000eV(<1keV:超伝導､> 2keV:半導体)
・アレイ検出器素子数 ：100
・光子計数率 ： 1 Mcps
・冷却 ： 液体ヘリウムを使用せず機械式冷凍機による自動冷却（0.3K)
- 設備状況
- 稼働中
可視－近赤外過渡吸収分光装置 (VITA) (Visible/Near-Infrared Transient Absorption Spectrometer (VITA))
- 設備ID
- AT-503
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- (1) ナノ秒可視・近赤外蛍光寿命計測装置：産総研自主開発、(2) ナノ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置：産総研自主開発、(3) ピコ秒可視蛍光寿命計測装置：産総研自主開発、(4) ピコ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置：産総研自主開発 ((1) Nanosecond Visible/Near-Infrared Fluorescence Spectrometer：AIST Original, (2) Nanosecond Visible/Near-Infrared Transient Absorption Spectrometer：AIST Original, (3) Picosecond Visible/Near-Infrared Fluorescence Spectrometer：AIST Original, (4) Picosecond Visible/Near-Infrared Transient Absorption Spectrometer：AIST Original)
- 型番
- 仕様・特徴
- (1) ナノ秒可視・近赤外蛍光寿命計測装置
液体、溶液、結晶、フィルムなどの蛍光スペクトルと蛍光寿命を測定する装置。
励起光源にレーザーダイオードやピコ秒のNd:YAGレーザーを用いており、非常に簡便に計測ができる。
寿命測定は時間相関単一光子計数法または高速オシロスコープによる直接法を用いており、弱い励起条件での計測が可能であるとともに、8桁程度の信号ダイナミックレンジのデータが取得できる。
・時間分解能:約200 ps
・励起波長:278, 342, 355, 408, 455, 532, 560, 637 nm
・測定波長範囲:350 nm～1600 nm
・測定雰囲気：-270 ℃～室温～+100 ℃
(2) ナノ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置
液体、溶液、結晶、フィルムなどの過渡吸収スペクトルと減衰挙動を測定する装置。
励起光源に波長可変のTi:Sapphireレーザーを用いており、様々な測定対象に対応可能。
従来装置と比べて測定感度が高いことが特徴であり、吸光度変化として<0.001の計測が可能。
・時間分解能: 1 ns程度
・励起光: 100 fsパルス、波長240～2400 nm
・測定波長範囲: 400 nm～6000 nm
・測定雰囲気: 室温大気中(特殊環境は要相談)
(3) ピコ秒可視蛍光寿命計測装置
この装置は、40 psの時間分解能、時間レンジ1 ～ 100 ns、400 ～ 900 nmの観測波長領域を有する、時間分解蛍光スペクトル測定装置。
固体中励起子寿命、励起子拡散長、色素分子蛍光寿命の評価が可能。
・形式: C4334-01
・励起光:100 fsパルス、波長240～800 nm
・測定雰囲気: 室温大気中(特殊環境は要相談)
・時間分解能：40 psの時間分解能時間 ﾚﾝｼﾞ1～100 ns、400～900 nm
(4) ピコ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置
200 fsの時間分解能、240 ～ 11000 nmの観測波長領域、<0.001の吸収測定精度を有する過渡吸収分光装置。
固体中キャリア寿命、界面電荷分離反応の速度・収率、励起子拡散長を評価。
・測定モード:透過・正反射・拡散反射型ﾎﾟﾝﾌﾟ-ﾌﾞﾛｰﾌﾞ法
・励起光:100～150 fsパルス、波長240～2400 nm
・測定雰囲気:室温大気中(特殊環境は要相談)
・時間分解能：200 fsの時間分解能、240～11000 nm
- 設備状況
- 稼働中
固体NMR装置 (SSNMR) (Solid-State Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer (SSNMR))
- 設備ID
- AT-505
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- (1) 固体NMR装置（600MHz）: ブルカー・ジャパン（株）バイオスピン事業部、(2) 固体NMR装置（200MHz）: ブルカー・ジャパン（株）バイオスピン事業部、(3) 固体NMR装置（20MHz）：ブルカー・ジャパン（株）バイオスピン事業部、 (4) NMRマイクロイメージング装置（300MHz）: ブルカー・ジャパン（株）バイオスピン事業部 ((1) Solid-State Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer（600MHz）: Bruker Biospin, (2) Solid-State Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer（200MHz）: Bruker Biospin, (3) Solid-State Nuclear Magnetic Resonance Spectrometer（20MHz）・Bruker Biospin, (4) Nuclear Magnetic Resonance Microimaging Spectrometer（300MHz）: Bruker Biospin)
- 型番
- (1) 固体NMR装置（600MHz）: Bruker社製Avance III HD 600WB、(2) 固体NMR装置（200MHz）: Bruker社製Avance 200WB、(3) 固体NMR装置（20MHz）・Bruker社製 minispec mq20、(4) NMRマイクロイメージング装置（300MHz）: Bruker社製Avance III 300WB
- 仕様・特徴
- (1) Bruker 社製Avance III HD 600WB
・磁場強度: 14.1テスラ（1H共鳴周波数： 600 MHz）
・固体高分解能測定、二次元測定、緩和時間測定、拡散係数測定に対応。
・測定可能温度: 広幅測定時 -120～200℃
(2) Bruker社製Avance 200WB
・磁場強度: 4.7テスラ（1H共鳴周波数： 200 MHz）
・広幅測定および13C固体高分解能測定、二次元測定、緩和時間測定に対応。
・測定可能温度: 広幅測定時 -120～200℃
(3) Bruker社製 minispec mq20
・磁場強度: 0.47テスラ(1H共鳴周波数: 20 MHz)
・プロトン(軽水素)測定に使用。緩和時間測定、磁場勾配法による拡散係数測定にも対応
・測定可能温度: 広幅測定時 -120～200℃
(4) Bruker社製Avance III 300WB
・磁場強度: 7.05テスラ（1H共鳴周波数： 300 MHz）
・NMRマイクロイメージング測定、二次元測定、緩和時間測定、拡散係数測定に対応。
・測定可能温度: 広幅測定時 -120～200℃
- 設備状況
- 稼働中
超伝導蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡 (SC-SEM) (Scanning Electron Microscope with a Superconducting Tunnel Junction X-ray Detector (SC-SEM))
- 設備ID
- AT-506
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- ・検出器：産総研自主開発 ・顕微鏡：JEOL (・Detector: AIST Original ・SEM: JEOL)
- 型番
- ・検出器：産総研自主開発 ・顕微鏡：JSM-IT800SHLs
- 仕様・特徴
- 高感度、高分解能の超伝導検出器を搭載した、蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡。
電子線で試料上を走査する際に放出される蛍光X線を測定することにより、主に軽元素の分布状態を評価できる。半導体エネルギー分散型検出器、シンチレーション型反射電子検出器も搭載。試料を冷却しながらの計測も可能。大気非暴露搬送、装置内での昇華、割断、コーティングが可能。
・蛍光X線エネルギー範囲：
40 eV-4 keV（超伝導）、200 eV- 20 keV（半導体）
・エネルギー分解能：
～7 eV@400 eV X-ray（超伝導）、
＜56 eV@C-Ka （半導体）
・計数率：200 kcps
・走査型電子顕微鏡：JEOL JSM-IT800SHLs
・加速器電圧範囲：10 V-30 kV
・最大サンプルサイズ：Φ100 ㎜、Φ10 ㎜（冷却時）
・2次電子最高空間分解能：0.6 nm程度@15 kV, 1.1 nm程度@1 kV
・試料最低冷却温度：－190℃以下
・機械式ヘリウム3冷凍機を用いて簡単に冷却でき、長時間の測定可能
- 設備状況
- 稼働中
デバイスシミュレーター (Device Simulator)
- 設備ID
- BA-001
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- SILVACO (SILVACO)
- 型番
- ATHENA/ATLAS
- 仕様・特徴
- 2次元プロセスシミュレーター
2次元シリコン・デバイスシミュレーター
2次元先端材料・デバイスシミュレーター
3次元シリコン/先端材料・デバイスシミュレーター
- 設備状況
- 稼働中
スパッタリング装置 (Sputtering System)
- 設備ID
- BA-002
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL (i-miller)
- 仕様・特徴
- スパッタ方式：マグネトロン・サイドスパッタ RF500W （DC）
スパッタ源：3インチ×4（強磁性体材料用GUN1基含む）、逆スパッタ可
サンプルホルダ：最大φ220 mm／最小20 mm
（4インチウエハ用および不定形用ホルダあり）
加熱温度：室温～300℃
到達真空度・時間：10-5 Pa、10分以内に7 x 10-3 Pa
排気系：ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオトラップ
操作方式：全自動（レシピ設定可）
プロセスガス：Ar、N2、O2
- 設備状況
- 稼働中
FIB-SEM (Focused Ion beam - Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- BA-003
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- FEI (FEI)
- 型番
- Helios NanoLab 600i
- 仕様・特徴
- 電子とイオンの2種のソースにより、TEM試料作製、イオン照射による直接加工をSEM観察をしながら実施できる。
加速電圧：1-30kV（電子ビーム）
0.5-30kV（Gaイオンビーム）
デポジション用ガス：C,Ptガス
分析機能：EDS
- 設備状況
- 稼働中
電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)
- 設備ID
- BA-004
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- エイコー (eiko)
- 型番
- EB-350T
- 仕様・特徴
- 到達圧力：1.0×10-6 Pa以下
蒸発源：5 kW 5連EBガン
ルツボ容量：5 cc
基板ホルダー：φ3インチ
- 設備状況
- 稼働中