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原子層堆積装置_1[FlexAL] (Atomic Layer Deposition_1〔FlexAL〕)
- 設備ID
- AT-031
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![原子層堆積装置_1[FlexAL]](data/facility_item/AT-031.jpg)
- メーカー名
- オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
- 型番
- FlexAL
- 仕様・特徴
- ・型式:FlexAL
・試料サイズ:8インチφ
・基板温度:100-550℃
・プラズマALD:600W（誘導結合型）
・基板バイアス:100W
・反応ガス:H2O, O2, N2, H2, NH3
・材料ポート:8ポート
・常備材料ガス:TMA, DEZn, 3DMAS, TTIP, TDMATi, TBTDMTa, TEMAHf, Ru(EtCp)2, TBTDEN, TEMAZr, TDMAHf
・キャリアガス:Ar
・膜厚計測用 in-situ 分光エリプソ
- 設備状況
- 稼働中
クロスセクションポリッシャー(ALD付帯) (Cross Section Polisher)
- 設備ID
- AT-032
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- IM4000
- 仕様・特徴
- ・型式:IM4000
・試料サイズ:15mm(W)×15mm(D)×7mm(H)
・イオンガン:冷陰極ペニング型
・使用ガス:アルゴン
・加速電圧:1～6kV
・放電電圧:1.5kV
・断面ミリングレート:100～300µm/h (加速電圧6kV時) ※材料により異なる
・スイング角度:OFF～±40°
- 設備状況
- 稼働中
アルゴンミリング装置 (Argon Ion Milling System)
- 設備ID
- AT-033
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 伯東 (Hakuto)
- 型番
- 3-IBE
- 仕様・特徴
- 形式：3-IBE カウフマン型DCイオン源
試料サイズ：最大4インチ
ミリングガス：Ar
ビーム加速電圧：100～1200V
イオン入射角：-90°～90°（0°が試料表面に垂直入射）
- 設備状況
- 稼働中
集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (Focused Ion Beam System（FIB）)
- 設備ID
- AT-034
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- FB-2100
- 仕様・特徴
- ・型式:FB-2100
・試料サイズ: 18mmφ以下, 高さ10mm以下
・イオン源:ガリウム液体金属イオン源
・加速電圧:2kV, 5kV, 10kV～40 kV （低加速電圧対応）
・像分解能:6 nm （SIM）
・ビーム径:3µm, 1.3µm, 600 nm, 320 nm, 120 nm, 60 nm, 10 nm
・イオンビーム電流:0.1nA～68nA （大電流対応）
・デポジションガス:タングステンカルボニル
・マニュピレータシステム:シングルプローブ
・試料ステージ制御:5軸チルトステージ
・ステージ傾斜角度:最大45°
- 設備状況
- 稼働中
二次イオン質量分析装置(D-SIMS) (Secondary Ion Mass Spectrometer (D-SIMS))
- 設備ID
- AT-038
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- アルバックファイ (ULVAC PHI)
- 型番
- ADEPT-1010
- 仕様・特徴
- ・型式:ADEPT-1010
・試料サイズ:50mmφ
・一次イオン: O2（加速電圧 0.25-8.0kV）、Cs（加速電圧 0.25-11.0kV）
・ビーム径:75μmφ以下
・二次イオン質量分析計:四重極型
・分析モード:質量スペクトル測定、ライン分析、デプスプロファイル、二次イオンイメージ像
- 設備状況
- 稼働中
ウェハー酸化炉 (Oxidation Furnace)
- 設備ID
- AT-041
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- マテルス (MATELS)
- 型番
- MAT-200KS
- 仕様・特徴
- ・型式:MAT-200KS
・試料サイズ:最大4インチφ×25枚(長さ150 mm)
・ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン
・常用温度:1100 ℃（到達時間:2時間）
・温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm)
・炉心管:石英、136 mmΦ×長さ1090 mm
・試料室:ドライ、ウェット雰囲気
・使用ガス:O2, N2, H2O
- 設備状況
- 稼働中
触針式段差計 (Contact Profiler)
- 設備ID
- AT-045
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- KLA テンコール (KLA-Tencor)
- 型番
- Alpha-Step IQ
- 仕様・特徴
- ・型式:Alpha-Step IQ
・試料サイズ:4インチ
・測定再現性:1σ≤8Å
・膜厚測定範囲:400 μm
・走査距離:最大10mm
・走査速度:2～200 μm /sec
・サンプリングレート:50, 100, 200, 500, 1000ポイント /sec
・測定レンジ:20, 400 μm
・針圧設定範囲:1～100 mg
- 設備状況
- 稼働中
走査プローブ顕微鏡SPM_1[NanoscopeⅣ/Dimension3100] (Scanning Probe Microscope 1 (SPM1, NanoscopeIV/Dimension 3100))
- 設備ID
- AT-046
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![走査プローブ顕微鏡SPM_1[NanoscopeⅣ/Dimension3100]](data/facility_item/AT-046.jpg)
- メーカー名
- デジタルインスツルメンツ (Veeco/Digital Instruments )
- 型番
- NanoscopeⅣ/Dimension3100
- 仕様・特徴
- ・型式:NanoscopeⅣ/Dimension3100（Veeco社製）
・試料サイズ:150 mm以内（面範囲）、12 mm（高さ範囲）
・試料固定:真空チャック
・測定範囲:90 μm×90 μm（面範囲）、6 μm以内（高さ範囲）
・測定精度:最大2%（最大レンジ幅）
- 設備状況
- 稼働中
走査プローブ顕微鏡SPM_2[SPM-9600/9700] (Scanning Probe Microscope 2〔SPM２, SPM-9600/9700〕)
- 設備ID
- AT-047
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![走査プローブ顕微鏡SPM_2[SPM-9600/9700]](data/facility_item/AT-047.jpg)
- メーカー名
- 島津製作所 (SHIMADZU)
- 型番
- SPM-9700
- 仕様・特徴
- ・型式:SPM-9700
・試料サイズ:24mmφ×8mm
・試料固定:マグネットによる固定
・スキャナ走査範囲:125μm×125μm×7μm
・分解能: 0.2nm（水平）、0.01nm（垂直）
・測定モード:ダイナミック、コンタクト、位相、電流、表面電位（KFM）
- 設備状況
- 稼働中
ナノサーチ顕微鏡SPM_3[SFT-3500] (Scanning Probe Microscope 3〔SPM3, SFT-3500, Nano Search Microscope〕)
- 設備ID
- AT-048
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![ナノサーチ顕微鏡SPM_3[SFT-3500]](data/facility_item/1651474557_14.jpg)
- メーカー名
- 島津製作所 (SHIMADZU)
- 型番
- SFT_3500
- 仕様・特徴
- ・型式:SFT_3500
・試料サイズ:6インチφ、最大高さ:54.5mm
・ステージストローク:100×100mm
LSM部
・観察視野:2,560μm～21μm
・対物レンズ:5×, 20×, 100× （光学ズーム 1×～6×）
SPM部
・最大走査範囲:30μm（X,Y）、4μm（Z）
・垂直分解能：0.1nm程度
・検出方式:光てこ方式
・測定モード:ダイナミックモード（タッピングモード）、コンタクトモード、位相モード、表面電位モード[KFM]、電流モード
- 設備状況
- 稼働中