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共用設備検索結果

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水蒸気プラズマクリーナー (Aqua Plasma Cleaner)

メーカー名
サムコ(株) (Samco Inc.)
型番
AQ-500KU
設備画像
水蒸気プラズマクリーナー
設置機関
京都大学
仕様・特徴
サムコ株式会社 Aqua Plasma クリーナー AQ-500KU
水蒸気(H2O)を用いたプラズマ処理
樹脂接合、金属酸化膜の還元、有機洗浄、超親水性処理
200mm角試料まで対応

真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)

メーカー名
エヌ工房 (N ceator)
型番
PC-01-H
設備画像
真空紫外露光装置
設置機関
北海道大学
仕様・特徴
試料サイズ:最大1インチ

高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)

メーカー名
カナメックス (Kanamex)
型番
KLO-150CBU
設備画像
高圧ジェットリフトオフ装置
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
仕様・特徴
・型式:KLO-150CBU
・試料サイズ:小片20mm□~150mmφ
・回転数:0~2000rpm
・NMP処理温度:80℃

プラズマアッシャー (Plasma Asher)

メーカー名
ヤマト科学株式会社 (Yamato Scientific Co., Ltd.)
型番
PR500
設備画像
プラズマアッシャー
設置機関
早稲田大学
仕様・特徴
使用ガス:O2ガス
試料サイズ:φ4インチ以下
用途:レジストの灰化除去
ドライエッチング後のO2アッシング)
有機系汚染物質のクリーニング
Si表面の親水化処理等

ウェハ洗浄装置 (Single Wafer Cleaning System)

メーカー名
EVG (EVG)
型番
EVG301
設備画像
ウェハ洗浄装置
設置機関
東京工業大学
仕様・特徴
・PVA製スポンジブラシ洗浄 ・メガソニック洗浄(最大振動子出力:40 W) ・対応基板サイズ:2インチウェハ/2 cm×2 cm角/3 cm×3 cm角

洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)

メーカー名
東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
型番
特注
設備画像
洗浄ドラフト一式
設置機関
豊田工業大学
仕様・特徴
シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群
小型~太陽電池156mm角基板等

エッチング装置(レジスト Ashing用) (Asher)

メーカー名
神戸製鋼 (Kobe Steel, Ltd.)
型番
設備画像
エッチング装置(レジスト Ashing用)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
O2, N2使用可能 レジストアッシング用
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