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UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])

メーカー名
サムコ (samco)
型番
UV-1
設備画像
UVオゾンクリーナー [UV-1]
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:基板クリーニング,表面改質
・光源:紫外線ランプ (184.9nmおよび253.7nm)
・オゾンジェネレータ:無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度:室温~300度
・最大試料サイズ:φ8 inch

UVオゾンクリーナー・キュア装置 (UV Ozone Cleaner & DeepUV Cure Equipment)

メーカー名
サムコ(株) (Samco Inc.)
型番
UV-300HKU
設備画像
UVオゾンクリーナー・キュア装置
設置機関
京都大学
仕様・特徴
サムコ株式会社 UV-300HKU
UVランプと高濃度オゾナイザを備える
Φ8インチウェハ対応
O2、N2ガス
ステージ加熱:室温~300℃

真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)

メーカー名
エヌ工房 (N ceator)
型番
PC-01-H
設備画像
真空紫外露光装置
設置機関
北海道大学
仕様・特徴
試料サイズ:最大1インチ

ウェハ洗浄装置 (Single Wafer Cleaning System)

メーカー名
EVG (EVG)
型番
EVG301
設備画像
ウェハ洗浄装置
設置機関
東京工業大学
仕様・特徴
・PVA製スポンジブラシ洗浄 ・メガソニック洗浄(最大振動子出力:40 W) ・対応基板サイズ:2インチウェハ/2 cm×2 cm角/3 cm×3 cm角
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