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水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500])

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
AQ-500
設備画像
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500]
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力:50-250W
・反応ガス:H2O,O2
・最大試料サイズ:φ8 inch
・その他:自動運転プログラム

プラズマクリーナー (Plasma cleaner)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
PDC210
設備画像
プラズマクリーナー
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
基板固定方式:静置(温度制御不可)
プラズマ方式:CCP、バレル式
ガス:O2、Ar

アルバック アッシング装置 (Ulvac asher)

メーカー名
アルバック (Ulvac)
型番
UNA-2000
設備画像
アルバック アッシング装置
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:4、6インチ
カセットtoカセット
プラズマ方式:CCP(2.45GHz)
ガス:O2、H2フォーミングガス

ブランソン アッシング装置 (Branson Asher)

メーカー名
ブランソン (Branson)
型番
IPC4000
設備画像
ブランソン アッシング装置
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
サンプルは石英治具に載せる
プラズマ方式:バレル式
ガス:O2

EVG プラズマ活性化装置 (EVG plasma activation)

メーカー名
EVG (EVG)
型番
810
設備画像
EVG プラズマ活性化装置
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
ガス:N2、O2、Ar

エキシマ洗浄装置 (Excimer lamp cleaner)

メーカー名
デアネヒステ (Dernaechste)
型番
EXC-1201-DN
設備画像
エキシマ洗浄装置
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~4インチ
ガス:O2

UVオゾンクリーナー  (UV ozone cleaner)

メーカー名
サムコ (SAMCO)
型番
UV-1
設備画像
UVオゾンクリーナー
設置機関
東京大学
仕様・特徴
レジスト等のアッシング処理が可能

プラズマ表面改質装置  (Plasama Surface Modificaton Equipment)

メーカー名
サムコ (SAMCO)
型番
AQ-50
設備画像
プラズマ表面改質装置
設置機関
東京大学
仕様・特徴
特にポリマーの接合前の表面処理、超臨界流体製膜前処理、親水化処理が可能。

超高密度大気圧プラズマ装置 (Ultra-high density atomospheric pressure plasma system)

メーカー名
FUJI (FUJI)
型番
特注
設備画像
超高密度大気圧プラズマ装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理(改質、洗浄)
・使用ガス:Ar,N2.Ar+O2
・電源:AC交流電源、9 kV,60 Hz

ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)

メーカー名
自作 (Lab made)
型番
設備画像
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う.
・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He
・基板温度:-10℃-60℃
・サンプル:4インチウエハ
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