共用設備検索結果
赤外線ランプ加熱装置 (Rapid Thermal Processing System)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系
ウエハRTA装置 (Wafer RTA)
- メーカー名
- ハイソル (HiSOL)
- 型番
- AccuThermo AW610
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：小片～φ6インチの急速アニール
・加熱方式：赤外線ランプ加熱方式
・プロセス温度：800度以下
・昇温速度：150度／秒以下＠Siウエハ、40度／秒以下＠SiCサセプタ
・プロセスガス：N2, Ar, Ar+H2(3%), O2
・最大試料サイズ：φ6inch
シンター用オーブン (Sintering oven)
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DR22
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高650℃
ポリイミドキュア炉 (Curing oven)
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DN43H
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
温度：最高350℃
酸化炉 (Oxidation)
- メーカー名
- 東京エレクトロン (TEL)
- 型番
- XL-7
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（パイロジェニック）
酸化炉(8) (Oxidation)
- メーカー名
- 光洋サーモシステム (Koyo)
- 型番
- MT-10×8-A
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（バブリング）
酸化温度：最大1050℃
