共用設備検索結果
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3] (RTA [RTP-6 #3])
- 設備ID
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]](data/facility_item/1673319163_10.jpg)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：N2,O2,Ar+3%H2
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2] (RTA [RTP-6 #2])
- 設備ID
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]](data/facility_item/NM-619.jpg)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系
シンター用オーブン (Sintering oven)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DR22
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高650℃
真空オーブン (Vacuum oven)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DP-31
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高200℃
ホットプレート (Hot plate)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- Shamal (Shamal)
- 型番
- HHP-230SQ
- 仕様・特徴
- 設定温度：40～400℃
温度分布精度：±1℃
ポリイミドキュア炉 (Curing oven)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DN43H
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
温度：最高350℃
酸化炉 (Oxidation)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (TEL)
- 型番
- XL-7
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（パイロジェニック）
酸化炉(8) (Oxidation)
- 設備ID
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋サーモシステム (Koyo)
- 型番
- MT-10×8-A
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（バブリング）
酸化温度：最大1050℃
