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赤外線ランプ加熱装置 (Rapid Thermal Processing System)

メーカー名
アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
型番
RTP-6
設備画像
赤外線ランプ加熱装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:多目的熱処理プロセス
・加熱方式:赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度:1200℃以下
・昇温速度:10℃/秒以下
・プロセスガス:Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:タッチパネル操作系

ウエハRTA装置 (Wafer RTA)

メーカー名
ハイソル (HiSOL)
型番
AccuThermo AW610
設備画像
ウエハRTA装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:小片~φ6インチの急速アニール
・加熱方式:赤外線ランプ加熱方式
・プロセス温度:800度以下
・昇温速度:150度/秒以下@Siウエハ、40度/秒以下@SiCサセプタ
・プロセスガス:N2, Ar, Ar+H2(3%), O2
・最大試料サイズ:φ6inch

シンター用オーブン (Sintering oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DR22
設備画像
シンター用オーブン
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
温度:最高650℃

真空オーブン (Vacuum oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DP-31
設備画像
真空オーブン
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
温度:最高200℃

ホットプレート (Hot plate)

メーカー名
Shamal (Shamal)
型番
HHP-230SQ
設備画像
ホットプレート
設置機関
東北大学
仕様・特徴
設定温度:40~400℃
温度分布精度:±1℃

クリーンオーブン (Clean oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DE62
設備画像
クリーンオーブン
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ

ポリイミドキュア炉 (Curing oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DN43H
設備画像
ポリイミドキュア炉
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
温度:最高350℃

酸化炉 (Oxidation)

メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
設備画像
酸化炉
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(パイロジェニック)

酸化炉(8) (Oxidation)

メーカー名
光洋サーモシステム (Koyo)
型番
MT-10×8-A
設備画像
酸化炉(8)
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(バブリング)
酸化温度:最大1050℃

拡散炉 (Diffusion)

メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
設備画像
拡散炉
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
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