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125kV電子ビーム描画装置 (125kV-EB Writer)

メーカー名
エリオニクス (Elionix)
型番
ELS-F125
設備画像
125kV電子ビーム描画装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:高精細ナノパターニング
・電子銃:ZrO/W 熱電界放射型
・最大加速電圧:125kV (25kV ステップで可変)
・フィールドつなぎ精度:25nm 以下(500μm フィールド)
・重ね合わせ精度:30nm 以下(500μm フィールド)
・最大試料サイズ:6 inch
・走査クロック周波数:100MHz

100kV電子ビーム描画装置 (100kV-EB Writer)

メーカー名
エリオニクス (Elionix)
型番
ELS-7000
設備画像
100kV電子ビーム描画装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:高精細ナノパターニング
・電子銃:ZrO/W 熱電界放射型
・最大加速電圧:100kV (25kV ステップで可変)
・フィールドつなぎ精度:40nm 以下(500μm フィールド)
・重ね合わせ精度:40nm 以下(500μm フィールド)
・最大試料サイズ:6 inch
・走査クロック周波数:100MHz

高解像度レーザーリソグラフィ装置 (High-resolution laser lithography system)

メーカー名
ハイデルベルグ・インストルメンツ (HEIDELBERG INSTRUMENT)
型番
DWL66+
設備画像
高解像度レーザーリソグラフィ装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・光源:375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード:ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード:0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ:8インチ角
・その他:グレースケール描画、重ね合わせ描画

高速マスクレス露光装置 (High-speed Maskless Lithography)

メーカー名
ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
型番
DL-1000 / NC2P
設備画像
高速マスクレス露光装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:高速マスクレスパターニング
・光源:405nm 半導体レーザー(h線)
・照度:10W/cm2
・位置決め精度:500nm 以下
・重ね合わせ精度:500nm 以下
・最大試料サイズ:8インチ角
・その他:グレースケール露光,スキャニング露光,自動/手動アライメント機能

水蒸気プラズマ洗浄装置 (Water Vapor Plasma Cleaner)

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
AQ-500
設備画像
水蒸気プラズマ洗浄装置
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力:50-250W
・反応ガス:H2O,O2
・最大試料サイズ:φ8 inch
・その他:自動運転プログラム

UVオゾンクリーナー (UV Ozone Cleaner)

メーカー名
サムコ (samco)
型番
UV-1
設備画像
UVオゾンクリーナー
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:基板クリーニング,表面改質
・光源:紫外線ランプ (184.9nmおよび253.7nm)
・オゾンジェネレータ:無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度:室温~300度
・最大試料サイズ:φ8 inch

有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)

メーカー名
 ()
型番
設備画像
有機ドラフトチャンバー
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ

真空オーブン (Vacuum oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DP-31
設備画像
真空オーブン
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
温度:最高200℃

ホットプレート (Hot plate)

メーカー名
Shamal (Shamal)
型番
HHP-230SQ
設備画像
ホットプレート
設置機関
東北大学
仕様・特徴
設定温度:40~400℃
温度分布精度:±1℃

クリーンオーブン (Clean oven)

メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DE62
設備画像
クリーンオーブン
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
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