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分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)
- メーカー名
- J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
- 型番
- M2000-D
- 設備画像
- 設置機関
- 広島大学
- 仕様・特徴
- 測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193～1000nm、
干渉式膜厚計 (Spectroscopic reflectometer)
- メーカー名
- ナノメトリクスジャパン (Nanometrics Inc)
- 型番
- AFT 5000
- 設備画像
- 設置機関
- 広島大学
- 仕様・特徴
- 可視光及び紫外光光源、多層膜対応解析ソフト搭載。
表面段差計 (Profilometer)
- メーカー名
- BRUKER (BRUKER)
- 型番
- Dektak XT-E
- 設備画像
- 設置機関
- 広島大学
- 仕様・特徴
- 垂直範囲：10nm～1mm、垂直解像度：最高0.1nm
触針式表面形状測定器 (Stylus-type surface shape measuring system)
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- Dektak8
- 設備画像
- 設置機関
- 香川大学
- 仕様・特徴
- 測定分解能:最小:0.1nm
垂直分解能/レンジ：1Å/65kÅ、10Å/655kÅ、40Å/2620kÅ
サンプルサイズ：直径210mm
測定長さ：50μm〜50mm
最大サンプリング数：30,000点
測定加重：1〜15mg
自動多点測定数：最高200点
サンプル観察：
トップビュー（低倍率カラー）10mm
サイドビュー（高倍率カラー）1mm
測定再現性:1nm以下
エリプソメータ (Film thickness measuring system)
- メーカー名
- 溝尻光学 (Mizojiri-opt)
- 型番
- DHA-XA/M8
- 設備画像
- 設置機関
- 香川大学
- 仕様・特徴
- 膜厚と屈折率を測定可能
処理物：～12インチウェハ 光源波長：632.8nm（He-Neレーザー）
入射角：55°～75°，90°
入射角設定単位：0.01°
最小分解能：1Å
分布計測分解能：0.01mm