1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)

メーカー名
J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
型番
M2000-D
設備画像
分光エリプソメーター
設置機関
広島大学
仕様・特徴
測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193~1000nm、

干渉式膜厚計 (Spectroscopic reflectometer)

メーカー名
ナノメトリクスジャパン (Nanometrics Inc)
型番
AFT 5000
設備画像
干渉式膜厚計
設置機関
広島大学
仕様・特徴
可視光及び紫外光光源、多層膜対応解析ソフト搭載。

表面段差計 (Profilometer)

メーカー名
BRUKER (BRUKER)
型番
Dektak XT-E
設備画像
表面段差計
設置機関
広島大学
仕様・特徴
垂直範囲:10nm~1mm、垂直解像度:最高0.1nm

触針式表面形状測定器 (Stylus-type surface shape measuring system)

メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
Dektak8
設備画像
触針式表面形状測定器
設置機関
香川大学
仕様・特徴
測定分解能:最小:0.1nm
垂直分解能/レンジ:1Å/65kÅ、10Å/655kÅ、40Å/2620kÅ
サンプルサイズ:直径210mm
測定長さ:50μm〜50mm
最大サンプリング数:30,000点
測定加重:1〜15mg
自動多点測定数:最高200点
サンプル観察:
トップビュー(低倍率カラー)10mm
サイドビュー(高倍率カラー)1mm
測定再現性:1nm以下

エリプソメータ (Film thickness measuring system)

メーカー名
溝尻光学 (Mizojiri-opt)
型番
DHA-XA/M8
設備画像
エリプソメータ
設置機関
香川大学
仕様・特徴
膜厚と屈折率を測定可能
処理物:~12インチウェハ 光源波長:632.8nm(He-Neレーザー)
入射角:55°~75°,90°
入射角設定単位:0.01°
最小分解能:1Å
分布計測分解能:0.01mm
スマートフォン用ページで見る