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共用設備検索結果

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自動エリプソメータ (Ellipsometer)

メーカー名
ファイブラボ (five Lab)
型番
MARY-102FM
設備画像
自動エリプソメータ
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
仕様・特徴
・用途:絶縁膜形成評価
・光源:632nm He-Neレーザー
・ビーム径:0.8mm
・入射角:50°,60°,70°
・最大試料サイズ:φ6inch

卓上型エリプソ (Desktop Ellipsometer)

メーカー名
フォトニックラティス (Photonic lattice)
型番
SE-101
設備画像
卓上型エリプソ
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

エリプソ (Ellipsometer)

メーカー名
アルバック (Ulvac)
型番
-
設備画像
エリプソ
設置機関
東北大学
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

エリプソメータ (Ellipsometry)

メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
M-500S
設備画像
エリプソメータ
設置機関
北海道大学
仕様・特徴
Xe光源, 測定波長:350~800nm, 試料水平置き

分光エリプソメータ (Ellipsometer)

メーカー名
堀場製作所 (Horiba)
型番
UVISEL Plus
設備画像
分光エリプソメータ
設置機関
筑波大学
仕様・特徴
PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター

測定波長:190~2100 nm(波長分解能力:2 nm)
スポットサイズ:0.05, 0.1, 1mmφ(垂直入射時)を選択

分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometer)

メーカー名
堀場 Jovin-Yvon (Horiba Jovin-Yvon)
型番
UVISEL-M200-FUV-FGMS
設備画像
分光エリプソメータ
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
仕様・特徴
・型式:UVISEL-M200-FUV-FGMS
・試料サイズ:150mmφ
・ステージ上下調整幅:20mm
・波長範囲:190~826nm(1.5~6.5eV)

単波長エリプソメータ (Single Wavelength Ellipsometer)

メーカー名
溝尻光学工業所 (Mizojiri-opt)
型番
DHA-XA2M
設備画像
単波長エリプソメータ
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
仕様・特徴
・型式:DHA-XA2M
・試料サイズ:4インチφ
・光源:He/Neレーザー(632.8nm)、LD830(830nm)
・測定方式:回転検光子法
・入射角度:55°~75°

エリプソメーター (Ellipsometer)

メーカー名
ガ-トナ- (Gartner Sci. Corp.)
型番
LSE
設備画像
エリプソメーター
設置機関
豊田工業大学
仕様・特徴
・シリコン酸化膜あるいはSiN膜等の単層あるいは2層膜の膜厚測定
・φ6インチ以下基板

位相変調型分光エリプソメーター (Spectroscopic Ellipsometer)

メーカー名
株式会社堀場製作所 (HORIBA, Ltd.)
型番
UVISEL LT NIR-NNG
設備画像
位相変調型分光エリプソメーター
設置機関
大阪大学
仕様・特徴
【特徴】
紫外~近赤外域まで測定可能な高精度分光エリプソメーターです。
高周波(50kHz)にて偏光変化を採取する位相変調機能を備えています。
【仕様】
照射領域:2×6mm
測定波長範囲:260~2100nm
光源:Xeランプ

分光エリプソメーター (Spectroscopic Ellipsometer)

メーカー名
堀場ージョバンイボン (HORIBA JOBIN YVON)
型番
UVISEL ER AGMS-NSD
設備画像
分光エリプソメーター
設置機関
奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST)
仕様・特徴
・波長範囲: 0.6 eV 〜 6.0 eV(206 nm 〜2066 nm )
・スポット径: 約 5 mm * 2 mm
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