精密イオン研磨装置
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | HK-104 |
|---|---|
| 分類 | > |
| 設備名称 | 精密イオン研磨装置 (PIPS) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 工学部 EM棟EM204室 |
| メーカー名 | ガタン (Gatan) |
| 型番 | PIPS Model 691 |
| キーワード | イオン研磨 金属 半導体 セラミックス 高分子 Arイオン 冷却 |
| 仕様・特徴 | ・イオン加速電圧：1 ～ 6 kV ・イオン入射角：最大±10° ・真空系：ターボ分子ポンプ（TMP）、ダイヤフラムポンプ（DP） ・使用ガス：G1アルゴンガス ・イオンビームモジュレーション機構 ・液体窒素冷却装置 ・TVカメラ |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-104 |
