精密研磨装置
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最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | UT-901 |
|---|---|
| 分類 | 組立・パッケージング > 研磨(化学、機械) |
| 設備名称 | 精密研磨装置 (C.M. Polisher) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | ロジテック (Logitec) |
| 型番 | Logitec4” |
| キーワード | CMP、化学機械研磨 |
| 仕様・特徴 | 化学研磨装置。 アルミナの粉によって、対象物を精密に研磨する装置です。4”丸型ウエーハまで研磨可能。 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-901 |
